[发明专利]带电粒子光学器件

说明书

本发明涉及一种操纵多个带电粒子束的轨迹的带电粒子光学器件。所述的带电粒子光学器件包括电磁偏转器，其包括基本上扁平的衬底，该衬底具有所述衬底的上侧、下侧、和均匀的厚度。该衬底包括：在其中穿过所述束的贯通开口，其中所述贯通开口穿过所述衬底的上侧和下侧；第一和第二线圈，其中所述线圈优选基本上是螺旋的线圈，并包括配置在上侧的导电上侧引线，配置在下侧的导电下侧引线，和延伸穿过所述衬底的通孔，并且其中所述通孔导电性连接所述上侧引线的一个和所述下侧引线的一个，以形成所述线圈；其中所述第一和第二线圈被配置在所述贯通开口的任一侧上。

发明的背景技术

发明领域

本发明涉及一种用于操纵一个或多个带电粒子束的轨迹的带电粒子光学器件，特别地在使用多个带电粒子束曝光多个目标的带电粒子多束曝光系统中使用。此外，本发明涉及一种包括这样器件的带电粒子光学器件。此外，本发明涉及一种在带电粒子多束曝光系统中操纵一个或多个带电粒子束轨迹的方法。

相关技术的说明

WO2010/125526描述了一种带电粒子光学器件。这种带电粒子光学器件包括基本上扁平的衬底，它包括用于在其中通过所述的多个束的孔。该扁平的衬底支撑偏转所述多个带电粒子束的静电偏转器的电极，其中电极至少部分地且适配地大部分覆盖衬底中的孔。所述的静电偏转器包括第一和第二直且狭长的电极，其沿着狭长传送窗口的纵向侧配置，且通过操作所述第一和第二电极之间的电场静电偏转器偏转穿过所述窗口的多个束。

如在WO2010/125526中描述的，静电偏转器包括多个平行配置的窗口。所述窗口的每一个相对长以获得最大的均匀性。此外，每个所述的窗口优选具有相对小的宽度，以便电极上的电势差显著减小，同时仍旧获得足够的偏转角。这样设计的优势已在WO2010/125526中被详细描述。

在已知的静电偏转器中，所述的狭长传送窗口可被配置成在其中穿过大量的紧密包裹的束，且所述的大量的束能同时被偏转。

已知的静电偏转器的劣势是大量同时被偏转的束仅仅能在基本上垂直于所述电极的方向上偏转。因此，所述的束仅仅能在基本上垂直于狭长窗口的纵向方向的一个方向中偏转。

本发明的目的是提供带电粒子光学器件，其能同时在基本上平行于所述狭长窗口的纵向的方向上偏转大量的束。

发明概述

根据第一方面，本发明提供操纵一个或多个带电粒子束的轨迹的带电粒子光学器件，所述的带电粒子光学器件包括第一电磁偏转器，其包括基本上扁平的衬底，该衬底具有在所述基本上扁平的衬底上侧或附近的第一表面，在所述基本上扁平的衬底的下侧或附近的第二表面，和基本上均匀的厚度，其中该衬底包括：

在其中穿过所述的一个或多个束的贯通开口，其中所述贯通开口穿过所述基本上扁平的衬底的上侧和下侧；

第一和第二线圈，其中每个所述第一和第二线圈包括一个或多个配置在第一表面上的导电上侧引线，一个或多个配置在第二表面上的导电下侧引线，和一个或多个延伸穿过所述衬底的通孔，其中所述通孔的每一个配置为导电地连接所述上侧引线的一个和所述下侧引线的一个，以形成所述线圈。

其中，所述第一和第二线圈配置在贯通开口的任一侧。

当电流被引导穿过所述的第一和第二线圈时，特别是在相同的方向穿过所述第一和第二线圈，建立磁场。这个磁场具有延伸穿过第一线圈、越过所述贯通开口和延伸穿过所述第二线圈的场线。穿过所述贯通开口的一个或多个束在垂直于场线的方向中被磁场偏转，因而在基本上平行于所述的螺旋线圈的上侧和下侧引线的方向中。

相比之下，注意到在先前技术的静电偏转器中，穿过所述贯通开口的一个或多个束在基本上横穿所述第一和第二电极的方向被电场偏转。第一和第二电极沿着狭长传送窗口的纵向侧配置。