[发明专利]对工具处理数据提供多变量分析的基于K最近邻法与系统

说明书

本发明提供一种服务器计算机系统，所述服务器计算机系统为运行配方的第一工具建立参考指纹。服务器计算机系统使用参考数据来建立参考指纹，所述参考数据与在参数之内执行的第一工具相关。参考指纹包括目标基线及基于目标基线的允许范围。服务器计算机系统基于样本数据与参考指纹的比较，确定与运行配方的第二工具相关联的样本数据是否在参数之内执行。第二工具可为第一工具或与所述第一工具相同类型的另一工具。服务器计算机系统基于样本数据与参考指纹的比较向系统或用户中的至少之一提供第二工具的分类。所述分类指示第二工具是否在参数之内执行。

技术领域

本揭示案的实施方式涉及分析工具处理数据，且更特定而言，涉及使用基于k最近邻法(k-nearest neighbor-based method)对工具处理数据提供多变量分析。

背景技术

在半导体工业中，运行配方(recipe)的各种工具有大量传感器数据。通常，传感器信息为原始数据，所述原始数据通常可能对一些用户没有用处，这些用户比如工艺工程师等等。大量的数据可能常常难以管理。一些解决方案使用诸如PCA(主成分分析；principalcomponent analysis)之类的统计方法以尝试将原始数据变换为对用户有意义的数据。然而，半导体工艺的独特特性(比如成批工艺的非线性、具有可变持续时间的工艺步骤等等)已在基于PCA的解决方案中带来一些困难。

发明内容

本案揭示一种方法，所述方法包含：使用参考数据及根据参考数据确定的多个最近邻值为运行配方的第一工具建立参考指纹，所述参考数据与在与运行配方相关联的参数之内执行的所述第一工具相关，所述参考指纹包含目标基线及基于所述目标基线的一或更多个允许范围；基于与运行配方的第二工具相关联的样本数据与参考指纹的比较，确定所述样本数据是否在参数之内执行，所述第二工具为第一工具或与所述第一工具相同类型的另一工具；及基于样本数据与参考指纹的比较向系统或用户中的至少之一提供第二工具的分类，所述分类指示所述第二工具是否在参数之内执行。

本案进一步揭示一种系统，所述系统包含：存储器；及处理装置，所述处理装置与存储器耦接以：使用参考数据及根据参考数据确定的多个最近邻值为运行配方的第一工具建立参考指纹，所述参考数据与在与运行配方相关联的参数之内执行的所述第一工具相关，所述参考指纹包含目标基线及基于所述目标基线的一或更多个允许范围；基于与运行配方的第二工具相关联的样本数据与参考指纹的比较，确定所述样本数据是否在参数之内执行，所述第二工具为第一工具或与所述第一工具相同类型的另一工具；及基于样本数据与参考指纹的比较向系统或用户中的至少之一提供第二工具的分类，所述分类指示所述第二工具是否在参数之内执行。

本案进一步揭示一种包括指令的非瞬态计算机可读储存媒介，当这些指令由处理装置执行时，使所述处理装置执行包含以下操作的操作：通过处理装置使用参考数据及根据参考数据确定的多个最近邻值为运行配方的第一工具建立参考指纹，所述参考数据与在与运行配方相关联的参数之内执行的所述第一工具相关，所述参考指纹包含目标基线及基于所述目标基线的一或更多个允许范围；基于与运行配方的第二工具相关联的样本数据与参考指纹的比较，确定所述样本数据是否在参数之内执行，所述第二工具为第一工具或与所述第一工具相同类型的另一工具；及基于样本数据与参考指纹的比较向系统或用户中的至少之一提供第二工具的分类，所述分类指示所述第二工具是否在参数之内执行。

附图说明

本揭示案通过举例的方式而并非限制的方式图示于附图的各图中，在这些附图中，相同标号表示类似元件。应注意，对本揭示案中的“一”或“一个”实施方式的不同引用不必然指示相同实施方式，并且这些引用意指至少一个。

图1为图示利用工具分析模块的系统的方块图。

图2为工具分析模块的一个实施方式的方块图。

图3图示根据不同实施方式的包括参考指纹(fingerprint)的示例性图形用户界面。