[发明专利]对工具处理数据提供多变量分析的基于K最近邻法与系统

权利要求书

1.一种用于分析工具处理数据的方法，包含以下步骤：

使用参考数据及由所述参考数据确定的多个最近邻值为运行配方的第一工具建立参考指纹，所述参考数据与在与运行所述配方相关联的参数之内执行的所述第一工具相关，所述参考指纹包含目标基线及基于所述目标基线的多个允许范围；

通过计算与运行所述配方的第二工具相关联的样本数据的一部分与所述参考指纹的所述目标基线的相应部分之间的距离，确定所述样本数据是否在所述参考指纹之内执行，所述第二工具是所述第一工具或与所述第一工具相同类型的另一工具，并且所述样本数据对应于来自运行所述配方的所述第二工具的多个传感器的数据；

基于所计算的所述距离和基于所述目标基线的所述多个允许范围向系统或用户中的至少之一提供所述第二工具的分类，所述分类指示所述第二工具是否在所述参考指纹之内执行；

响应于指示所述第二工具未在所述参考指纹之内执行的所述分类，从所述第二工具的所述多个传感器识别促成所计算的所述距离与所述多个允许范围的偏差的传感器和在所识别的传感器促成所述偏差时运行所述配方的所述第二工具的工艺步骤；以及

使用所述分类和所述传感器的所述识别来为所述第二工具提供维护。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包含以下步骤：

识别所述样本数据与所述参考指纹之间的一或更多个偏差；

基于所述一或更多个偏差确定所述第二工具未在所述参数之内执行；以及

提供额外数据以识别所述第二工具未在所述参数之内执行的原因。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述额外数据包含贡献数据，所述贡献数据描述所述第二工具的所述多个传感器的贡献。

4.如权利要求1所述的方法，其中当所述样本数据在所述参考指纹之内时，所述分类为正常；当所述样本数据不在所述参考指纹之内时，所述分类为异常。

5.如权利要求1所述的方法，其中建立所述参考指纹的步骤包含以下步骤：

使用所述参考数据产生所述多个最近邻值的向量，其中所述向量指示用于所述配方的、所述第一工具的多个传感器的效能；

由所述向量确定目标值，其中所述目标值表示所述多个传感器的期望效能；

基于所述目标值确定所述多个传感器的所述期望效能的所述多个允许范围；以及

将所述参考指纹定义为所述目标值及所述多个允许范围。

6.如权利要求5所述的方法，其中确定所述目标值的步骤包含以下步骤：

确定所述向量中的所述多个最近邻值的平均值。

7.如权利要求5所述的方法，其中确定所述多个允许范围的步骤包含以下步骤：

由所述目标值确定一或更多个标准偏差。

8.一种用于分析工具处理数据的系统，包含：

存储器；以及

处理装置，所述处理装置与所述存储器耦接以：

使用参考数据及根据所述参考数据确定的多个最近邻值为运行配方的第一工具建立参考指纹，所述参考数据与在与运行所述配方相关联的参数之内执行的所述第一工具相关，所述参考指纹包含目标基线及基于所述目标基线的多个允许范围；

通过计算与运行所述配方的第二工具相关联的样本数据的一部分与所述参考指纹的所述目标基线的相应部分之间的距离，确定所述样本数据是否在所述参考指纹之内，所述第二工具为所述第一工具或与所述第一工具相同类型的另一工具，并且所述样本数据对应于来自运行所述配方的所述第二工具的多个传感器的数据；

基于所计算的所述距离和基于所述目标基线的所述多个允许范围向系统或用户中的至少之一提供所述第二工具的分类，所述分类指示所述第二工具是否在所述参考指纹之内执行；

响应于指示所述第二工具未在所述参考指纹之内执行的所述分类，从所述第二工具的所述多个传感器识别促成所计算的所述距离与所述多个允许范围的偏差的传感器和在所识别的传感器促成所述偏差时运行所述配方的所述第二工具的工艺步骤；以及

使用所述分类和所述传感器的所述识别来为所述第二工具提供维护。