[发明专利]曝光装置以及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：

光源；

光学板，该光学板设置有掩膜图案；以及

掩膜支架，该掩膜支架保持该光学板，在所述光学板的所述光源一侧形成气密空间，

来自所述光源的光照射至所述光学板，使所述掩膜图案曝光在工件上，该曝光装置的特征在于，具有：

压力调整机构，该压力调整机构调整所述气密空间内的压力；以及

倾斜机构，该倾斜机构使所述掩膜支架倾斜为规定的角度，

在利用该倾斜机构使所述掩膜支架倾斜了规定的角度的状态下，利用所述压力调整机构调整所述气密空间内的压力之后，利用所述倾斜机构使所述掩膜支架恢复至原先的角度，进行曝光。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

包括位移检测器，该位移检测器检测所述光学板的形状的位移，

利用该位移检测器事先检测曝光时所述光学板的形状的位移，

在利用所述倾斜机构使所述掩膜支架倾斜时，所述压力调整机构调整所述气密空间内的压力，使利用所述位移检测器检测到的所述光学板的形状的位移减少。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

事先对所述掩膜支架的倾斜角度和使曝光时所述光学板的形状的位移接近0的所述气密空间内的压力的关系进行储存，

所述压力调整机构基于储存的关系，对所述气密空间内的压力进行调整，使曝光时所述光学板的形状的位移接近0。

4.如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

包括角度传感器，该角度传感器检测所述掩膜支架的倾斜角度。

5.如权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述压力调整机构基于利用所述位移检测器检测到的曝光时所述光学板的形状的位移，对所述气密空间内的压力进行再调整。

6.一种曝光方法，是利用：

光源；

光学板，该光学板设置有掩膜图案；以及

掩膜支架，该掩膜支架保持该光学板，在所述光学板的所述光源一侧形成气密空间，

使所述光学板的所述掩膜图案曝光在工件上，该曝光方法的特征在于，包含：

倾斜工序，该倾斜工序使所述掩膜支架相对于所述工件倾斜规定的角度；

压力调整工序，该压力调整工序对所述掩膜支架的所述气密空间内的压力进行调整；

平行配置工序，该平行配置工序将所述掩膜支架配置成相对于工件平行；以及

曝光工序，该曝光工序使来自所述光源的光经由所述光学板曝光在工件上。