[发明专利]隔膜安装部件及带电粒子线装置有效

专利信息
申请号: 201480044976.7 申请日: 2014-03-10
公开(公告)号: CN105493224B 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 河西晋佐;大南佑介;铃木宏征;安岛雅彦 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: H01J37/16 分类号: H01J37/16;H01J37/18;H01J37/28
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 金成哲,宋春华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 隔膜 安装 部件 带电 粒子 线装
【说明书】:

技术领域

本发明涉及能够在大气压或者与大气压相比稍处于负压状态的预定的气体环境下观察的带电粒子线装置。

背景技术

为了观察物体的微小的区域,使用扫描型电子显微镜(SEM)或透射型电子显微镜(TEM)等。一般而言,在这些装置中对用于配置试样的壳体进行真空排气,使试样环境为真空状态之后对试样进行摄像。然而,生物化学试样或液体试样等因真空而受到损伤,或者状态发生改变。另一方面,想要用电子显微镜观察这种试样的需求较大,近年来,开发出能够在大气压下对观察对象试样进行观察的SEM装置。

专利文献1中记载了能够在大气压下进行观察的SEM装置。该装置在原理上在电子光学系统与试样之间设置能够使电子射线透射的隔膜而隔开真空状态和大气状态,在使试样接近隔膜而在非接触状态下进行观察这一点上,与环境单元等的观察方法不同。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2012-221766公报

发明内容

发明要解决的问题

在能够在上述大气压下进行观察的SEM装置中,当操作错误而使试样接触隔膜时,有时隔膜会被污染或者破坏。在隔膜被污染或者破坏的情况下,需要更换隔膜。

隔膜需要具备能够使带电粒子线透射的薄度和隔离真空与大气压环境的耐压性,在制作上需要高超的技术。因此,要制造能够进行大气压观察的SEM装置专用的隔膜需要较高成本。其结果作为消耗品的隔膜成为高价品。

另外,具备隔膜的基座较小,从而以单体很难处理。在专利文献1中,将隔膜固定在保持部件上,每个保持部件都能从大气压SEM装置拆卸,通过设为这种结构,隔膜的处理变得良好。但是,没有提及向保持部件安装隔膜等的作业的麻烦程度之类的问题。在向保持部件安装隔膜的作业中,尤其是,要注意隔膜与隔膜保持部件的开口有可能偏心。若隔膜与隔膜保持部件的开口偏心而被安装,则在使隔膜中心与电子光学系统光轴的位置一致后实施大气压SEM观察时,一次、二次带电粒子线的一部分或者全部被隔膜保持部件遮蔽,SEM装置的性能有可能下降。

如上所述,在现有的装置中,由于未充分考虑到在更换隔膜时所需的成本和作业的便利性等,因此难以使用装置。

本发明鉴于这种问题而做出,其目的是提供一种带电粒子线装置,其在能够在大气压下进行观察的SEM装置中,能够简单地进行隔膜安装作业。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题,本发明的特征在于,具备适用于SEM装置的隔膜安装部件,该SEM装置能够在大气压下观察TEM用膜片。

另外,该转换部件的特征在于,在安装隔膜的部位具有用于使隔膜中心与转换部件的开口部中心一致而进行安装的对位用的结构。

发明的效果

本发明的目的是提供一种在能够在大气压下进行观察的SEM装置中,能够廉价或者操作性良好地实施隔膜的更换的带电粒子线装置。

上述以外的问题、结构以及效果通过以下的实施方式的说明而变得清楚。

附图说明

图1是实施例1的带电粒子显微镜的整体结构图。

图2是图1的A-A向视图。

图3是隔膜保持部件的详细图。

图4是隔膜保持部件的详细图。

图5是隔膜保持部件的详细图。

图6是装配夹具的详细图。

图7是装配作业工序的说明图。

图8是使用隔膜台的带电粒子显微镜的整体结构图。

图9是实施例2的带电粒子显微镜的整体结构图。

图10是实施例3的带电粒子显微镜的整体结构图。

具体实施方式

以下,使用附图对各实施方式进行说明。

以下,作为带电粒子线装置的一例,对带电粒子线显微镜进行说明。只是,这只是本发明的一例,本发明并不局限于以下说明的实施方式。本发明还能够应用于扫描电子显微镜、扫描离子显微镜、扫描透射电子显微镜、这些显微镜与试样加工装置的复合装置、或者应用了这些显微镜的分析-检查装置。

另外,在本说明书中,所谓“大气压”是指大气环境或者预定的气体环境,且大气压或者稍微的负压状态的压力环境。具体而言,是大约105Pa(大气压)~103Pa左右。

实施例1

<装置结构>

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480044976.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top