[发明专利]中孔硅合成以及在锂离子蓄电池和太阳能氢电池中的应用在审
| 申请号: | 201480038835.4 | 申请日: | 2014-07-10 |
| 公开(公告)号: | CN105377757A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
| 发明(设计)人: | 王东海;戴放;衣冉;宰建陶 | 申请(专利权)人: | 宾夕法尼亚州研究基金会 |
| 主分类号: | C01B33/033 | 分类号: | C01B33/033;C25B11/04;C25B1/02;H01J19/32;H01M4/134;C01B3/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
| 地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 中孔硅 合成 以及 锂离子 蓄电池 太阳能 电池 中的 应用 | ||
1.一种用于生产多孔晶态硅的方法,包括:
用至少一种碱金属和碱金属合金还原硅-卤化物前体以产生硅-盐 基体;
退火所述硅-盐基体,由此在多孔硅结构中形成多个盐晶体;和
用水清洗多孔硅结构,由此提供多孔晶态硅。
2.权利要求1的方法,其中硅-卤化物前体选自SiCl4、SiI4、SiBr4和SiF4。
3.根据权利要求2的方法,其中硅-卤化物前体是SiCl4。
4.权利要求1的方法,其中所述碱合金选自钠-钾合金(NaK)、 钠金属和萘化钠。
5.权利要求1的方法,其中所述碱合金是NaK和其它碱金属或合 金,和所述硅-卤化物前体是SiCl4。
6.权利要求1的方法,其中所述方法不包括使选自硅-卤化物前 体、硅盐基体和多孔硅结构的任何成员接触氢氟酸。
7.权利要求1的方法,其中多孔硅结构包括尺寸为1nm-200nm的 多个孔隙,其中所述孔隙尺寸由至少一个外部模板的尺寸支配。
8.权利要求1的方法,其中所述多孔硅结构包括以有序分布而分 布的多个孔隙。
9.权利要求1的方法,其中所述多孔硅结构具有0.86-2.00cm3g-1 的总孔隙体积。
10.权利要求1的方法,其中所述多孔硅结构具有220-700m2g-1的表面积。
11.权利要求1的方法,其中将所述硅-卤化物前体与外部模板混 合,其中所述多孔硅结构具有大于20nm的平均孔隙尺寸。
12.权利要求1的方法,其中在甲苯溶液中进行所述还原步骤。
13.一种具有多孔硅结构的中孔硅结构,其具有10nm的中值平均 孔隙直径、0.86-1.44cm3g-1的总孔隙体积和550-580m2g-1的表面积。
14.锂离子蓄电池的阳极,包括:
多孔硅结构,其具有1nm-200nm的孔隙直径、0.86-1.44cm3g-1的总孔隙体积和220-580m2g-1的表面积;聚合物粘合剂(如聚丙烯酸 (PAA)、羧甲基纤维素钠盐(NaCMC)和/或聚偏氟乙烯(PVDF))和 导电碳。
15.权利要求14的阳极,其中所述聚合物粘合剂选自聚丙烯酸 (PAA)、羧甲基纤维素钠盐(NaCMC)和聚偏氟乙烯(PVDF)。
16.锂离子蓄电池,包括权利要求14的阳极。
17.用于太阳能氢析出的硅光催化剂,包含具有多孔硅结构的硅, 所述多孔硅结构具有10nm的平均孔隙直径,0.86-1.44cm3g-1的总孔 隙体积,和220-580m2g-1的表面积,其中所述硅结构具有通过UV-vis 漫反射光谱计算的最多1.63eV的带隙。
18.太阳氢燃料电池,包含权利要求17的硅光催化剂。
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