[发明专利]基板处理装置以及器件制造方法

说明书

本发明提供一种能够以高生产率来生产高品质的基板的基板处理装置以及器件制造方法。本基板处理装置以及器件制造方法具有：第一支承构件，其在照明区域和投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其在照明区域和投影区域中的另一方区域中，以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，使该第一支承构件所支承的光罩和基板中的某一方在扫描曝光方向上移动。投影光学系统在基板的曝光面上，将在扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至投影区域。

技术领域

本发明涉及一种将光罩的图案投影到基板上并在该基板上曝光该图案的基板处理装置、器件制造方法以及曝光方法。

背景技术

有一种制造液晶显示器等的显示器件或半导体等各种器件的器件制造系统。器件制造系统具有曝光装置等基板处理装置。基板处理装置将形成在配置于照明区域的光罩(或者标线片)上的图案的像投影到配置于投影区域的基板等上，在基板上曝光该图案。基板处理装置中使用的光罩一般是平面状的，但已知也有为了在基板上对多个器件图案连续地进行扫描曝光而设置成圆筒状的光罩(专利文献1)。

另外，作为基板处理装置，有一种记载于专利文献2中的投影曝光装置。专利文献2中记载的投影曝光装置具有：基板保持件，其以在一维移动方向上使感光基板的表面与由投影光学系统投影得到的图案像的最佳成像面相对仅倾斜规定量的方式将感光基板保持在基板载物台上；和保持件驱动单元，其以在扫描曝光期间内沿着感光基板的倾斜方向移动的方式，与基板载物台在一维方向上的移动连动地使基板保持件在投影光学系统的光轴的方向上移动。投影曝光装置利用上述结构，能够根据一维方向的扫描曝光的位置，改变投射于感光基板的曝光面的光束的聚焦状态。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2008/029917号

专利文献2：日本专利第2830492号公报

发明内容

如专利文献2中记载的那样，通过一边改变聚焦状态，一边进行曝光，即使在因光罩与基板的相对关系的偏移或者光学系统的偏移等导致投影光学系统投射的光束与曝光面之间的关系发生变化的情况下，也能够在包含最佳聚焦位置的聚焦状态下进行曝光。由此，能够抑制在感光基板(光致抗蚀剂层)上曝光的像对比度的变化。

但是，专利文献2中记载的投影曝光装置使用基板保持件使基板相对于投影光学装置(投影光学系统)倾斜。因此，相对位置的调整(控制)变得复杂。特别是，在对基板上的多个曝光区域(照射)中的每一个将光罩和基板相对扫描并使基板步进移动的步进扫描方式中，每当对基板上的各曝光区域进行扫描曝光时都需要高速地重复控制基板保持件的倾斜和向聚焦方向的移动，控制变得复杂，并且导致产生振动。

另外，在扫描曝光方式的基板处理装置中，若扫描曝光方向上的基板上的曝光区域的宽度小，则给予感光基板的曝光量也变少。因此，需要增大投射至基板上的曝光区域的曝光用光在每单位面积的照度，或者减缓扫描曝光的速度。反之，若增大扫描曝光方向上的基板上的曝光区域的宽度，则有时所形成的图案的品质(转印再现性)会下降。

本发明的方式的目的在于提供一种能够以高生产率生产高品质的基板的基板处理装置、器件制造方法以及曝光方法。