[发明专利]基板处理装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其具有将来自光罩的图案的光束投射至配置有基板的投影区域的投影光学系统，其中，所述光罩配置于照明光的照明区域，所述基板处理装置的特征在于，具有：

第一支承构件，其在所述照明区域和所述投影区域中的一方区域中，以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承所述光罩和所述基板中的一方；

第二支承构件，其在所述照明区域和所述投影区域中的另一方区域中，以沿着具有规定的曲率的第二面的方式来支承所述光罩和所述基板中的另一方；和

移动机构，其使所述第一支承构件旋转，使该第一支承构件所支承的所述光罩和所述基板中的某一方在扫描曝光方向上移动，

所述投影光学系统在所述基板的曝光面上，将在所述扫描曝光方向上包括两处最佳聚焦位置的光束投射至所述投影区域。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统以沿着所述扫描曝光方向对将所述光罩的图案投影而得到的投影像面与所述基板的曝光面之间赋予圆筒形状差的方式投射所述光束。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统在将所述投影区域的在所述扫描曝光方向上的中点的散焦量设为Δ、且将焦点深度设为DOF的情况下，满足0.5＜Δ/DOF≤3。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统满足1≤Δ/DOF。

5.如权利要求1、2、4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统具有多个分割投影光学系统，

所述分割投影光学系统在与所述扫描曝光方向正交的方向上配置成列状，分别向对应的所述投影区域投射所述光束。

6.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统具有多个分割投影光学系统，

所述分割投影光学系统在与所述扫描曝光方向正交的方向上配置成列状，分别向对应的所述投影区域投射所述光束。

7.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统的多个所述分割投影光学系统在所述扫描曝光方向上至少配置成两列，在与所述扫描曝光方向正交的方向上，相邻的所述分割投影光学系统的所述投影区域的端部彼此重叠。

8.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统的多个所述分割投影光学系统在所述扫描曝光方向上至少配置成两列，在与所述扫描曝光方向正交的方向上，相邻的所述分割投影光学系统的所述投影区域的端部彼此重叠。

9.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统在对多个所述分割投影光学系统的各投影区域的在所述扫描曝光方向上的宽度进行累计运算的情况下，该累计值在与所述扫描曝光方向正交的方向上恒定。

10.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，

所述投影光学系统在对多个所述分割投影光学系统的各投影区域的在所述扫描曝光方向上的宽度进行累计运算的情况下，该累计值在与所述扫描曝光方向正交的方向上恒定。

11.如权利要求1、2、4、6～10中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一支承构件支承所述光罩，

所述第二支承构件支承所述基板。

12.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一支承构件支承所述光罩，

所述第二支承构件支承所述基板。

13.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一支承构件支承所述光罩，

所述第二支承构件支承所述基板。