[发明专利]用于电子器件制造装置的指示器、以及该装置的设计及/或管理方法

权利要求书

1.一种指示器，其是在电子器件制造装置中使用的指示器，其特征在于，

(1)所述指示器用于检测选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种，

(2)所述指示器的形状与在所述电子器件制造装置中使用的基板的形状相同，

(3)所述指示器包括变色层，

(4)所述变色层由墨液组合物形成，所述墨液组合物通过与选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种发生反应而变色或脱色，

(5)通过所述变色层的变色或脱色，检测是否均匀地对所述基板整体进行了所述电子器件制造装置内的选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种的处理。

2.根据权利要求1所述的指示器，其特征在于，

所述指示器使用于对所述基板进行选自由氧化、氮化、成膜、杂质添加、清洗及蚀刻构成的组中的至少一种工序的电子器件制造装置。

3.根据权利要求1或2所述的指示器，其特征在于，

所述指示器包括非变色层，所述非变色层不因与选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种发生反应，而变色或脱色。

4.根据权利要求1或2所述的指示器，其特征在于，

所述变色层在基材的至少一个主面上相邻地形成。

5.根据权利要求3所述的指示器，其特征在于，

所述非变色层及所述变色层在基材上按顺序形成，

所述非变色层在所述基材的主面上相邻地形成，

所述变色层在所述非变色层的主面上相邻地形成。

6.一种电子器件制造装置的设计及/或管理方法，其特征在于，

(1)所述设计及/或管理方法具有如下工序：将检测选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种的指示器，放置于选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种的处理之下，

(2)所述指示器的形状与所述电子器件制造装置中使用的基板的形状相同，

(3)所述指示器包含变色层，

(4)所述变色层由墨液组合物形成，所述墨液组合物通过与选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种发生反应来变色或脱色，

(5)通过所述变色层的变色或脱色，所述指示器检测是否均匀地对所述基板整体进行了所述电子器件制造装置内的选自由等离子体、臭氧、紫外线、及含自由基气体构成的组中的至少一种的处理。

7.根据权利要求6所述的设计及/或管理方法，其特征在于，

在电子器件制造装置进行将所述指示器放置于所述处理之下的工序，所述电子器件制造装置对所述基板进行选自由氧化、氮化、成膜、杂质添加、清洗及蚀刻构成的组中的至少一种工序。