[发明专利]用于测量X射线图像设备和X射线检测器中的X射线剂量参数的装置

说明书

本发明涉及一种用于测量X射线剂量参数的装置(205，2051，2052，2053，2054，2055，305，405)。所述装置包括用于检测所述X射线剂量的检测器(3051，3052)。所述装置被配置为定位在邻近X射线源(201)的位置中，所述X射线源被布置成产生具有用于辐射对象(206)的主要射线部分的射线阵式，其中所述位置以这种方式选取，该方式使得减小或消除时再现图像的干扰。

技术领域

本发明通常涉及提供X射线设备中的剂量测量，并且更具体地涉及X射线剂量检测装置、X射线成像系统以及用于测量X射线成像系统中的X射线剂量的方法。

背景技术

在X射线成像中，例如在医学X射线成像中，有必要控制辐射水平。因此，例如通过提供电离室而测量X射线剂量。电离室可以作为对象(例如病人)和检测器/X射线源之间的额外单元而被提供。然而，由于电离室被设置为独立的部件，用于X射线成像系统的配置耗费宝贵的空间。此外，电离室会被移动位置，并且曝光过程会在无电离室的情况下进行。

图1是根据现有技术的一种简化的X射线源壳体100的示意图。X射线源壳体100包括产生X射线102的X射线管101。X射线102穿过准直器103，并且在这种情况下穿过剂量面积乘积(DAP)计104。

DAP计通常是大面积的透射电离室和相关的电子设备。使用时，电离室被放置成垂直于射束中心轴，并且在完全地截取X射线束的整个区域的位置。DAP与X射线视野大小的信息结合，可以被用于确定从电离室的位置开始在X射线束下游的任何距离处由X射线束产生的平均剂量。

DAP被定义为跨X射线束的剂量的积分。因此，DAP包括场不均匀性效应，诸如阳极跟效应，以及半透明的射束平衡快门(肺快门)的应用。假如入射射束被完全地局限到病人，记录值可以本质上提供被病人吸收的X射线能量的上限(即无透射或散射)。因为缺少病人中的剂量分布信息，DAP的估计随机风险的能力下降。最好的方式可能是假设用于所有处于风险中的组织的平均权重因子。这可能导致在某些情况下高估或低估风险。

发明内容

因此，在X射线成像中需要提供剂量测量，需要最小的结构空间，并且定位成不干扰再现图像。本发明的方案提供了测量许多X射线参数，其中包括总剂量和射线质量。

由于这些原因，X射线参数测量装置包括用于测量所述参数的检测器，被配置为定位在邻近X射线源的位置中，所述X射线源被布置成产生具有用于辐射对象的主要射线部分的射线阵式(formation)。所述位置以这种方式选取，该方式使得减小或消除对再现图像的干扰。在一种实施例中，所述检测器被配置为测量散射辐射。在另一种实施例中，所述检测器被配置为测量直接辐射。在一种实施例中，所述检测器被布置在X射线源的壳体上，并且被配置为检测通过设置在壳体中的孔的散射射线。根据第二实施例，所述检测器被布置在源的壳体的开口处，X射线从开口冒出(emerge)，所述检测器被至少部分或全部地定位在图像场中，即辐射待检查的对象的射线阵式。所述检测器也可以被布置在源的壳体内的这样的位置中，该位置对应于射线离开准直器孔的方向，被至少部分或全部地定位在图像场中，即辐射待检查的对象的射线阵式。在第四实施例中，所述检测器被布置在壳体内，位于所述源和准直器之间。在第五实施例中，所述检测器被布置在准直器内部或者准直器的表面上。

本发明的X射线参数测量装置可以被配置为测量一种或几种放射性参数，包括散射X射线的剂量、总剂量、剂量率、峰千伏电压(kVp)、半值层(HVL)、总过滤、曝光时间、脉冲、脉冲率和剂量/脉冲。

在一种实施例中，所述检测器包括包封许多层叠的二极管层的壳体，每个二极管层彼此间隔，并且在每个二极管层之间设有辐射过滤器，并且每个二极管层连接到用于产生与所述参数相对应的信号的处理单元。所述检测器可以包括在一层中包封一个或若干个二极管的壳体。而且，所述检测器在一种实施例中包括RF通信部分。