[发明专利]用于测量X射线图像设备和X射线检测器中的X射线剂量参数的装置

权利要求书

1.一种使用在X射线检查设备中用于对待检查的对象进行成像的X射线检查装置(205，2051，2052，2053，2054，2055，305，405)，所述X射线检查设备包括适于提供成像场的X射线源，所述成像场为将要辐射待检查的对象的X射线阵式，所述X射线检查装置包括被配置为测量包括X射线剂量的至少一个放射性参数的传感器部件(3051)，其特征在于，X射线检查装置定位在邻近所述X射线源(201)的位置中，其中所述位置在主要射线部分中使得减小或消除对再现图像的干扰，以及所述X射线检查装置包括：

壳体(207，3053)，

包封在所述壳体中的所述传感器部件，所述传感器部件包括许多层叠的二极管层(30511)，每个二极管层彼此间隔，并且在每个二极管层之间设有改变源辐射的能量含量的辐射过滤器，并且每个二极管层连接到用于产生与所述放射性参数相对应的信号的处理单元，以及

包封在所述壳体中的电子部，所述电子部包括所述处理单元(3052)以及相对应的电子器件(3052)。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述传感器部件(3051)被配置为测量散射辐射。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述传感器部件(3051)被配置为测量直接辐射。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，被配置为布置在X射线源的壳体上并且被配置为检测穿过设置在壳体中的孔的散射射线。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，被配置为布置在X射线源的壳体的开口处，其中X射线从所述开口冒出，所述装置至少部分地被定位在图像场中。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，被配置为布置在X射线源的壳体的内部的位置中，该位置对应于射线离开准直器孔的方向，所述装置至少部分地被定位在图像场中。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，被配置为布置在壳体的内部，位于源和准直器之间。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，被配置为布置在准直器的内部或准直器的表面上。

9.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，其中所述放射性参数包括散射X射线的剂量、总剂量、剂量率、峰千伏电压(kVp)、半值层(HVL)、总过滤、曝光时间、脉冲、脉冲率和剂量/脉冲中的一个或者多个。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，其中所述传感器包括RF通信部分。

11.根据权利要求1所述的装置，其中所述处理单元被实现在专用集成电路(ASIC)中。

12.一种用于处理放射性信息的计算机网络(400)，其特征在于，所述计算机网络包括X射线检查设备(401)、数据收集器(407)和数据库(408)，其中用于对待检查的对象进行成像的X射线检查设备(401)包括：

适于提供成像场的X射线源，所述成像场为将要辐射待检查的对象的X射线阵式，

X射线检查装置(205，2051，2052，2053，2054，2055，305，405)，包括被配置为测量包括所述X射线剂量的至少一个放射性参数的传感器部件(3051)，该X射线检查装置还被配置为定位在邻近所述X射线源的位置中，其中所述X射线检查装置被布置在主要射线部分中使得减小或消除对再现图像的干扰，并且所述X射线检查装置包括：

壳体(207，3053)，

包封在所述壳体中的许多层叠的二极管层(30511)，每个二极管层彼此间隔，并且在每个二极管层之间设有改变源辐射的能量含量的辐射过滤器，并且每个二极管层连接到用于产生与所述放射性参数相对应的信号的处理单元，以及

包封在所述壳体中的电子部，所述电子部包括所述处理单元(3052)以及相对应的电子器件。

13.根据权利要求12所述的计算机网络，其中所述数据库由中央应用和本地安装的DICOM、MWL、RDSR、MPPS或DICOMOCR数据收集器构成。