[发明专利]由含硼添加剂制备的聚二硅氮烷

权利要求书

1.一种聚二硅氮烷树脂，其具有下式：

其中

Y为C₂-C₃亚烷基；且

R¹、R²和R³各自独立地选自苯基、C₁-C₁₂烷基、连接氮原子的键、氯和溴；

其中R¹、R²和R³中的至少一个为连接氮原子的键；

R″为-Y-SiR¹R²R³；

R^a选自氢、C₁-C₁₂烷基、苯基、乙烯基、烯丙基或其组合；且

R^b选自氯、氢、C₁-C₁₂烷基、苯基、乙烯基、烯丙基或其组合；

其中R^a和R^b中的至少一个为乙烯基或烯丙基；

a、b、c、d、e、f和h各自表示聚二硅氮烷树脂中的各个单元的摩尔分数，其中总和a+b+c+d+e+f+h＝1；且

其中来自NH部分的键表示连接另一个Si原子的键。

2.根据权利要求1的聚二硅氮烷树脂，其中R¹、R²和R³各自独立地选自甲基、苯基、氯和连接氮原子的键。

3.根据权利要求1的聚二硅氮烷树脂，其中

Y选自-CH₂CH₂-、-CH(CH₃)-、-CH₂CH₂CH₂-和-CH₂-CH(CH₃)-；且

R¹、R²和R³中的每一个为甲基或连接氮原子的键，其中R¹、R²和R³中的至少一个为连接氮原子的键。

4.根据权利要求1的聚二硅氮烷树脂，其中R^a在各种情况下选自C₁-C₄烷基、苯基、乙烯基、烯丙基和乙烯基苄基。

5.根据权利要求1的聚二硅氮烷树脂，其中R^b在各种情况下选自氯、C₁-C₄烷基、苯基、乙烯基、烯丙基和乙烯基苄基。

6.根据权利要求1的聚二硅氮烷树脂，其中硼的浓度为所述聚二硅氮烷树脂的0.1wt％-2wt％。

7.根据权利要求6的聚二硅氮烷树脂，其中硼的浓度为所述聚二硅氮烷树脂的0.2wt％-1wt％。