[发明专利]红外屏蔽膜的制造方法在审
| 申请号： | 201480028070.6 | 申请日： | 2014-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN105228755A | 公开（公告）日： | 2016-01-06 |
| 发明（设计）人： | 坂田和彦;斋藤笃志 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/26 | 分类号： | B05D1/26;B05D1/34;B05D7/00;B05C5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 红外 屏蔽 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种红外屏蔽膜的制造方法，包括在连续行进的基材膜上使用滑斗涂布装置将高折射率层用涂布液和低折射率层用涂布液同时复层涂布10层～40层的层的工序，
所述高折射率层用涂布液和所述低折射率层用涂布液在40℃的粘度为5～200mPa·s，
所述滑斗型涂布装置的滑动面相对于水平面的角度为2～15°，
所述滑斗型涂布装置的每一个挡料块的厚度为15～40mm。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，同时复层涂布的层数为10层～34层。
3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，除最下层以外的所述高折射率层用涂布液和所述低折射率层用涂布液的涂布量为2～5g/m2。
4.根据权利要求1～3中任1项所述的制造方法，其中，最下层的所述高折射率层用涂布液或者所述低折射率层用涂布液的涂布量为10～40g/m2。
5.根据权利要求1～4中任1项所述的制造方法，其中，涂布速度为60～200m/min。
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