[发明专利]导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板

说明书

本发明提供能够简易地实现窄间距的导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。在基板(10)的至少一个主面的全部或一部分面上形成金属纳米丝层(12)，隔着以规定图案形成有透光部(14a)的掩模(14)而照射脉冲光，在所述规定图案的形状的区域将所述金属纳米丝层(12)中的金属纳米丝烧结，使所述规定图案的形状的区域显现导电性。由此，能够以简易的工序制造具备任意图案的导电图案的基板。

技术领域

本发明涉及导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。

背景技术

近年来，作为便携式电话机、便携式终端或个人计算机等各种电子设备，已使用在显示面板安装透光性的触摸屏，一边通过触摸屏目视确认显示面板的显示，一边用手指等对触摸屏的表面进行操作，由此能够对电子设备进行指示操作的电子设备。

作为这样的触摸屏，已知例如在透明的基板上沿X方向形成了规定形状的透明电极图案，并且沿Y方向(与X方向正交的方向)形成了同样的透明电极图案的静电电容型触摸屏。

上述触摸屏中所使用的透明电极图案，在形成有电极图案的区域(导电性区域)和没有形成电极图案的区域(非导电性区域)中光学性质产生差别，因此有时能够视认到电极图案的所谓“图案可见(骨見え)”会成为问题。为了防止这样的“图案可见”，需要使透明电极图案的交界的间隔极窄。例如，静电电容型触摸屏的情况下，需要X方向的电极图案与Y方向的电极图案的间隔最大为50μm，优选为20μm以下，更优选为10μm以下，采用印刷法难以实现这样的窄间距，因此采用光刻法进行图案化。

作为光刻法的例子，例如下述非专利文献1中记载了以下工序。

(1)将含有金属纳米丝的导电性墨涂布于基板上的工序。

(2)进行烧成，形成透明导电层的工序。

(3)将具有感光性的抗蚀剂形成于上述透明导电层上的工序。

(4)通过与微细图案相应的适当的遮光掩模对抗蚀剂赋予光能量的工序。

(5)将所得到的抗蚀剂的潜像，通过使用适当的显像用溶液进行溶出(洗脱)而显像的工序。

(6)采用适当的蚀刻方法将露出的被图案化膜(透明导电层)除去的工序。

(7)采用适当的方法将残存的抗蚀剂除去的工序。

另外，专利文献1中记载了以下工序。

(1)将在水中分散的含有银纳米丝的导电性墨涂布于基板上的工序。

(2)进行烧成，形成银纳米丝网层的工序。

(3)将含有预聚物的光固化型的基质材料形成于所述银纳米丝网层上的工序。

(4)通过与微细图案相应的适当的遮光掩模对基质材料赋予光能量的工序。

(5)将非固化区域通过用溶剂(乙醇)洗涤而除去的工序。或，使用胶带、粘着性辊将非固化区域物理性地除去的工序。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2009-505358号公报

非专利文献

非专利文献1：Shih-Hsiang Lai，Chun-Yao Ou，Chia-Hao Tsai，Bor-ChuanChuang，Ming-Ying Ma，and Shuo-Wei Liang；SID Symposium Digest of TechnicalPapers，Vol.39，Issue 1，pp.1200-1202(2008)

发明内容