[发明专利]用PH缓冲物质和具有磺基的有机两亲性物质的混合溶液涂覆的牙科用种植体及其制造方法有效
| 申请号： | 201480023123.5 | 申请日： | 2014-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN105142565B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 金秀曔;张一锡;宋住东;严泰官;崔圭钰 | 申请（专利权）人： | （株）奥齿泰种植体 |
| 主分类号： | A61C8/00 | 分类号： | A61C8/00;A61L27/28;A61L27/06 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所11399 | 代理人： | 朱健,陈国军 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ph 缓冲 物质 具有 有机 两亲性 混合 溶液 牙科 种植 及其 制造 方法 | ||
1.一种生物活性类型亲水性牙科用种植体，其作为具有粗糙表面的钛或钛合金材质的牙科用种植体，特征在于：
在为了除去污染源而进行了前处理的所述粗糙表面形成包括ⅰ)有机pH缓冲物质及/或无机pH缓冲物质和ⅱ)具有磺基的有机两亲性物质的混合溶液的涂覆层，
所述有机pH缓冲物质，其pKa为8.0以上，并且其为在AMPD、氨、N-二(羟乙基)甘氨酸、甘氨酸、甘氨酰甘氨酸、三(羟甲基)氨基甲烷、N-三(羟甲基)甲基甘氨酸及牛磺酸中选择的至少任意一个以上，
所述无机pH缓冲物质具有氢氧根，并且为在NaOH、KOH、Ca(OH)2、Ba(OH)2、AI(OH)3及Sr(OH)2中选择的至少任意一个以上，
包括在所述混合溶液的具有磺基的有机两亲性物质包括BES、HEPES、MOPS及TES中至少任意一个以上，
所述混合溶液包括0.05～1.68M具有磺基的有机两亲性物质，并且以所述混合溶液的1～10wt％的范围包括pH缓冲物质。
2.一种生物活性类型亲水性牙科用种植体的制造方法，其特征在于，包括：
第一步骤，准备钛或钛合金材质的牙科用种植体；第二步骤，将所述牙科用种植体表面处理为粗糙的表面；第三步骤，对所述处理得粗糙的牙科用种植体表面进行前处理，从而除去污染源；以及第四步骤，在所述经前处理的粗糙的牙科用种植体表面形成包括ⅰ)有机pH缓冲物质及/或无机pH缓冲物质和ⅱ)具有磺基的有机两亲性物质的混合溶液的涂覆层，所述有机pH缓冲物质的pKa为8.0以上，并且所述有机pH缓冲物质为在AMPD、氨、N-二(羟乙基)甘氨酸、甘氨酸、甘氨酰甘氨酸、三(羟甲基)氨基甲烷、N-三(羟甲基)甲基甘氨酸及牛磺酸中选择的至少任意一个以上，所述无机pH缓冲物质具有氢氧根，并且为在NaOH、KOH、Ca(OH)2、Ba(OH)2、AI(OH)3及Sr(OH)2中选择的至少任意一个以上，
包括在所述混合溶液的具有磺基的有机两亲性物质包括BES、HEPES、MOPS及TES中至少任意一个以上，
在所述第四步骤中，所述混合溶液包括0.05～1.68M具有磺基的有机两亲性物质，并且以所述混合溶液的1～10wt％的范围包括pH缓冲物质。
3.根据权利要求2所述的生物活性类型亲水性牙科用种植体的制造方法，其特征在于：
所述第三步骤的除去污染源的步骤，通过紫外线、RFGD(射频辉光放电)、氧及常温等离子体中任意一个以上的方法处理所述处理得粗糙的牙科用种植体表面。
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