[发明专利]用于反射镜的热致动的装置

说明书

本发明涉及一种尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动装置，所述反射镜包含反射镜基板(102，202)和光学有效表面(101，201)以及至少一个进入通道(110，111，112，210)，其从所述反射镜(100)的不对应于光学有效表面的表面延伸在该有效表面(101，201)的方向上，其中具有可变设定的冷却功率的冷却元件(120，220)突出进至少一个进入通道(110，111，112，210)中，以及其中提供用于将可变设定的加热功率耦合进反射镜基板(102，202)邻近光学有效表面的区域中的至少一个热源；其中通过设定冷却元件(120，220)的冷却功率以及至少一个热源的加热功率，光学有效表面(101，201)与反射镜(100)不对应于光学有效表面的所述表面之间的热通量是可实现的，所述热通量导致反射镜基板(102，202)中的温度梯度以及热膨胀系数值的相关局部变化。

相关申请的交叉引用

本申请要求均于2013年3月14日提交的德国专利申请DE 10 2013 204 427.5和US61/781,280的优先权。通过引用将这些申请的内容并入于此。

发明内容

本发明涉及一种尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动的装置。

背景技术

微光刻技术用于制造微结构化组件，例如集成电路或LCD。微光刻工艺在已知的投射曝光设备中进行，所述投射曝光设备具有照明装置和投射镜头。由照明装置照明的掩模(＝掩模母版)的像因此由投射镜头投射至基板(例如，硅晶片)上，所述基板涂覆有光敏层且布置在投射镜头的像面中，从而将掩模结构转印至基板的光敏涂层。

在设计用于EUV范围(即，在例如约13nm或约7nm的波长)的投射镜头中，由于缺少可用的适合光透射式折射材料，反射镜用作用于成像过程的光学组件。实际中出现的问题是，尤其由于对EUV光源发射的辐射的吸收，EUV反射镜经受加热以及伴随的热膨胀或变形，这进而可具有损坏光学系统的成像特性结果。同时，由于在光刻过程中使用特定的照明设定(例如，双极或四极)以及由于由掩模母版导致的衍射级，通过EUV辐射带来的热量输入可在接近光瞳的反射镜的光学有效截面上变化，所以发生不均匀的热量输入到反射镜中。

为了能够补偿应出现的那些效应，而且尤其改变反射镜的光学特性，例如补偿系统中出现的像差，已知通过热致动控制反射镜变形。例如，从WO 2010/018753 A1、US 2004/0051984 A1、WO 2008/034636 A2、DE 10 2009 024 118 A1、WO 2009/046955 A2和WO2012/041744 A1已知执行反射镜温度测量和/或反射镜致动或特定变形的提议方式。

实际上在反射镜的热致动或变形中出现的问题是，一方面，针对通过热膨胀或热收缩引入反射镜基板材料的变形，反射镜基板材料原则上必须有对热负载的足够灵敏度；另一方面，在投射曝光设备的“正常”操作期间出现的对光学负载的灵敏度以及相关温度效应是期望的。换言之，在没有设计反射镜的进一步措施以获得对为产生变形而引入的热负载的增加的灵敏度的情况下，由于归因于所用辐射(例如EUV)的不可避免的光学负载，在投射曝光设备操作期间，越来越多地出现热引致像差。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种光学系统中的反射镜的热致动装置，使得有效的热致动以及同时对在正常操作期间出现的光学负载低灵敏度成为可能。

该目的通过根据独立权利要求1的特征的装置来实现。

根据本发明的一个方面，本发明涉及一种尤其是微光刻投射曝光设备中的光学系统的反射镜的热致动装置，所述反射镜包含反射镜基板和光学有效表面以及至少一个进入通道，至少一个进入通道从反射镜的不对应于光学有效表面的表面延伸到光学有效表面的方向上，

-其中，可变地设定的具有冷却功率的冷却元件突出到至少一个进入通道中，以及