[发明专利]用于反射镜的热致动的装置有效
| 申请号: | 201480014966.9 | 申请日: | 2014-03-07 |
| 公开(公告)号: | CN105190443B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
| 发明(设计)人: | M.豪夫 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 反射 热致动 装置 | ||
1.用于光学系统中的反射镜的热致动的装置,所述反射镜具有反射镜基板(102,202)和光学有效表面(101,201)以及至少一个进入通道(110,111,112,210),所述至少一个进入通道在该有效表面(101,201)的方向上从所述反射镜(100)的不对应于所述光学有效表面的表面延伸,
其中,具有能够可变地设定的冷却功率的冷却元件(120,220)突伸进所述至少一个进入通道(110,111,112,210)中;并且
其中,提供至少一个热源,用于将能够可变地设定的加热功率耦合进所述反射镜基板(102,202)的邻近所述光学有效表面的区域中;
其中,通过设定所述冷却元件(120,220)的冷却功率和所述至少一个热源的加热功率,能够实现所述光学有效表面(101,201)与所述反射镜(100)的不对应于所述光学有效表面的所述表面之间的热通量,所述热通量导致所述反射镜基板(102,202)中的温度梯度和热膨胀系数值的相关局部变化,以及
其中,所述冷却元件与所述热源不接触。
2.根据权利要求1的装置,其特征在于,所述装置是用于微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动的装置。
3.根据权利要求1的装置,其特征在于,所述装置具有多个所述进入通道(110,111,112,210)。
4.根据权利要求3的装置,其特征在于,这些进入通道(110,111,112,210)均分别分配有冷却元件(120,220)。
5.根据权利要求4的装置,其特征在于,能够彼此独立地设定所述冷却元件(120,220)的冷却功率。
6.根据前述权利要求中任一项的装置,其特征在于,至少一个冷却元件(120,220)具有管状几何形状。
7.根据权利要求1至5中任一项的装置,其特征在于,所述热源具有至少一个热发射器(130,230),用于将加热辐射耦合进所述至少一个进入通道(110,210)。
8.根据权利要求7的装置,其特征在于,各个进入通道(110,111,112,210)分别分配有热发射器(130,230)。
9.根据权利要求8的装置,其特征在于,能够彼此独立地设定所述热发射器(130,230)的加热功率。
10.根据权利要求7的装置,其特征在于,所述至少一个热发射器(130,230)布置在所述进入通道(110,111,112,210)的面向所述光学有效表面(101,201)的端部中。
11.根据权利要求7的装置,其特征在于,所述加热辐射具有至少2.5μm的波长。
12.根据权利要求7的装置,其特征在于,所述加热辐射具有至少5μm的波长。
13.根据权利要求1至5中任一项的装置,其特征在于,所述反射镜具有反射涂层(550),所述热源具有至少一个加热线(540)或至少一个消热导体轨道,其布置在所述反射镜基板(102)与所述反射涂层(550)之间。
14.根据权利要求1至5中任一项的装置,其特征在于,所述进入通道(110,111,112,210)在所述光学有效表面(101,201)的方向上从所述反射镜(100)的与所述光学有效表面(101,201)相对的表面延伸。
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