[发明专利]高纯度2-氟丁烷在审
| 申请号： | 201480012705.3 | 申请日： | 2014-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN105008316A | 公开（公告）日： | 2015-10-28 |
| 发明（设计）人： | 杉本达也 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C07C19/08 | 分类号： | C07C19/08;H01L21/3065;C07C17/38;C07C17/383;C07C17/389 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 陈巍;刘力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纯度 丁烷 | ||
【权利要求书】：
1. 高纯度2-氟丁烷，其特征在于，纯度为99.9体积%以上，丁烯类的含量为1000体积ppm以下。
2. 权利要求1所述的高纯度2-氟丁烷，其中，氮含量为100体积ppm、且氧含量为50体积ppm以下。
3. 权利要求1或2所述的高纯度2-氟丁烷，其中，水分含量为50体积ppm以下。
4. 权利要求1-3任一项所述的高纯度2-氟丁烷，其中，2-氟丁烷中的0.1μm以上的微粒数目为50个/ml以下。
5. 权利要求1-4任一项所述的高纯度2-氟丁烷用作干蚀刻气体的方法。
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