[发明专利]颗粒结构的制备

权利要求书

1.一种制备颗粒结构的方法，所述方法包括以下步骤:

在基底(9)上形成膜(10)；

将所述基底(9)从第一位置移至第二位置；和

当所述基底(9)从第一位置移至第二位置时，使其沿着第一轴拉伸以使所述膜(10)碎裂成颗粒结构。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底(9)只沿着所述第一轴拉伸。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底(9)沿所述第一轴拉伸，同时或随后沿横切于所述第一轴的第二轴拉伸。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底(9)移动的方向平行于所述第一轴。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，拉伸所述基底(9)的步骤包含加快所述基底的移动，从在所述第一位置的第一速度加快至在所述第二位置的第二速度。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括：夹持所述基底(9)以将其速度限制为在所述第一位置的速度。

7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，形成膜(10)的步骤包括:

准备液体混合物(3)；

将所述液体混合物浇铸到所述基底(9)上形成液体膜；和

使所述液体膜至少部分干燥以形成固体或半固体膜(10)。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述液体混合物(3)包含溶液或在液体基质中的分散液。

9.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述膜(10)形成的厚度范围为100nm至1mm。

10.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述膜(10)包含药物和至少一种赋形剂。

11.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其特征在于，所述膜(10)包含多个具有不同配方的层。

12.一种制备颗粒结构的设备，所述设备包括:

基底(9)；

用于将膜(10)沉积在所述基底上的装置(3,4)；

用于将所述基底(9)移动经过用于沉积的装置(3,4)并从第一位置移至第二位置的装置(5A,5B,8)；和

用于在所述基底(9)从第一位置移至第二位置时拉伸所述基底(9)以将所述膜(10)碎裂成颗粒结构的装置。

13.如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述用于拉伸的装置包括：第一辊(5B)和第二辊(8)，所述第一辊驱动所述基底(9)在第一位置以第一速度移动，所述第二辊(8)驱动所述基底(9)在第二位置以更快的第二速度移动。

14.如权利要求13所述的设备，其特征在于，所述用于拉伸的装置还包括：将所述基底(9)压在所述第一辊(5B)上的装置(6)。

15.如权利要求12至14中任一项所述的设备，其特征在于，还包括：输送机(14)，所述输送机(14)在所述基底(9)从沉积装置(3,4)移至所述第一位置时支撑所述基底(9)。

16.如权利要求12至14中任一项所述的设备，其特征在于，还包括：在所述膜(10)从沉淀装置(3,4)移至所述第一位置时对所述膜(10)干燥的装置(15)。

17.如权利要求12至14中任一项所述的设备，其特征在于，所述基底(9)包含具有升高的图案(12)的表面。

18.如权利要求17所述的设备，其特征在于，所述升高的图案(12)包含升起的纵向条纹。

19.如权利要求12至14中任一项所述的设备，其特征在于，所述基底(9)由硅酮聚合物组成。

20.如权利要求12至14中任一项所述的设备，其特征在于，所述基底(9)的抗张强度大于100N/mm²。