[发明专利]叠层相位差膜及其制造方法

权利要求书

1.一种叠层相位差膜，其依次具备：

由特性双折射为正的树脂A1形成的树脂层A1、

由特性双折射为负的树脂B形成的树脂层B、以及

由特性双折射为正的树脂A2形成的树脂层A2，

其中，

所述树脂层A1与所述树脂层B直接接触，

所述树脂层B与所述树脂层A2直接接触，

树脂层A1及树脂层A2为负性C板，

树脂层B为正性B板，

该叠层相位差膜的Nz系数在0～1的范围，

所述负性C板是其折射率nx、ny及nz满足nx＞nz及ny＞nz、且面内延迟Re满足0nm≤Re≤5nm的层，

所述正性B板是其折射率nx、ny及nz满足nz＞nx＞ny的层，

所述Nz系数是(nx-nz)/(nx-ny)所表示的值，其中，nx为与膜或层的厚度方向垂直的方向、即面内方向中给与最大折射率的方向的折射率，ny为膜或层的所述面内方向中与nx的方向垂直的方向的折射率，nz为膜或层的厚度方向的折射率。

2.根据权利要求1所述的叠层相位差膜，其中，波长550nm下测定的所述树脂层A1的面内延迟Re_A1、所述树脂层A1的厚度方向的延迟Rth_A1、所述树脂层B的面内延迟Re_B、所述树脂层B的厚度方向的延迟Rth_B、所述树脂层A2的面内延迟Re_A2、及所述树脂层A2的厚度方向的延迟Rth_A2满足：

0nm≤Re_A1≤5nm

100nm≤Rth_A1≤160nm

110nm≤Re_B≤150nm

-160nm≤Rth_B≤-100nm

0nm≤Re_A2≤5nm

10nm≤Rth_A2≤40nm。

3.根据权利要求1或2所述的叠层相位差膜，其中，所述树脂A1的玻璃化转变温度Tg_A1与所述树脂B的玻璃化转变温度Tg_B之差的绝对值大于5℃且为40℃以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的叠层相位差膜，其面内延迟Re为50nm以上且400nm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的叠层相位差膜，其厚度方向的延迟Rth为-50nm以上且50nm以下。

6.一种叠层相位差膜的制造方法，其是制造权利要求1～5中任一项所述的叠层相位差膜的方法，

其中，该方法包括：

第一拉伸工序：将依次具备由所述树脂A1形成的层a1、与所述层a1直接接触的由所述树脂B形成的层b、以及与所述层b直接接触的由所述树脂A2形成的层a2的树脂叠层体，于温度T1、沿第一方向以1.1倍以上且小于2倍的拉伸倍率进行拉伸；和

第二拉伸工序：将在所述第一拉伸工序中经过拉伸后的所述树脂叠层体，于低于所述温度T1的温度T2、沿与所述第一方向正交的第二方向进行拉伸，由此，得到依次具备由所述树脂A1形成的树脂层A1、由所述树脂B形成的树脂层B及由所述树脂A2形成的树脂层A2的叠层相位差膜。

7.根据权利要求6所述的叠层相位差膜的制造方法，其中，所述叠层相位差膜的所述树脂层B具有与所述第一方向平行的面内慢轴。

8.根据权利要求6或7所述的叠层相位差膜的制造方法，其中，(层a1的厚度的总和+层a2的厚度的总和)/(层b的厚度的总和)为1/15以上且1/4以下。

9.根据权利要求6～8中任一项所述的叠层相位差膜的制造方法，其中，所述树脂叠层体是使用所述树脂A1、所述树脂B及所述树脂A2、通过共挤出法制造的叠层体。