[发明专利]滑动式回压关断阀

说明书

本发明涉及一种回压关断阀，该回压关断阀在维持应用于半导体及LCD等的半导体制造过程或化学产品制造过程等的一定压力或者将气体等流体的流动维持正方向的配管系统突然发生大气流入或流体反向流动现象时迅速地关断而能够予以防止，更具体地说，涉及如下的滑动式回压关断阀：其包括：阀主体，其由流体流入部、流体流出部及流体通过空间部构成；移送体，其上部安装了所述流体回压时关断流体流动的关断板，且在回压关断时，该移送体向所述流体通过空间部水平移动；以及移送体移动单元，其使所述移送体水平移动，平时由于阀的流体空间通路没有阻碍物而像直管一样地不妨碍流体的流动，当配管内发生回压时所述移送体水平移动到关断位置，在所述关断位置，安装在所述移送体的关断板浮起而关断流体的流动，从而在发生粉末的制程也能顺利地运行。

技术领域

本发明涉及一种回压关断阀，该回压关断阀在维持应用于半导体及LCD等的半导体制造过程或化学产品制造过程等的一定压力或者将气体等流体的流动维持正方向的配管系统突然发生大气流入或流体反向流动现象时迅速地关断而能够予以防止，更具体地说，涉及如下的滑动式回压关断阀：其包括：阀主体，其由流体流入部、流体流出部及流体通过空间部构成；移送体，其上部安装了所述流体回压时关断流体流动的关断板，且在回压关断时，该移送体向所述流体通过空间部水平移动；以及移送体移动单元，其使所述移送体水平移动，平时由于阀的流体空间通路没有阻碍物而像直管一样地不妨碍流体的流动，当配管内发生回压时所述移送体水平移动到关断位置，在所述关断位置，安装在所述移送体的关断板浮起而关断流体的流动，从而在发生粉末的制程也能顺利地运行。

背景技术

在半导体生产线上等通常会使用真空设备，此时为了形成真空而使用真空泵。所述半导体制造设备在真空状态(或非常低的气压状态)下进行沉积或蚀刻之类的基本处理，真空泵忽然发生故障或停止运转时大气压会倒过来流入到真空设备内，在真空室内的产品上生成粒子(particle)，从而对所述基本处理造成较大损失。

为了防止该问题而在真空室与真空泵之间使用回压关断阀，如专利授权第706661号所示，现有的回压关断阀中执行回压关断功能的关断板是凭借重力进行动作的，其结构是流路折弯一次以上的蜿蜒(mea nder)形态，因此瞬间流速增加及流体发生流动时非常脆弱。

而且，半导体等的制造过程中化学气相沉积(CVD：Chemical Va por Deposition)制程是一种在真空状态下喷射反应气体后在晶片上涂敷薄膜的制程，制程进行完毕后分解的二氧化硅(SiO₂)及氧化铝(A l₂O₃)之类的粒子状物质(以下简称“粉末(powder)”)会发生很多，由于所述回压关断阀的关断板一直暴露于流路，因此所述粉末将导致所述关断板变形而在关断时影响到准确压力下的反复动作性及准确密封(sealing)性。

而且，如果所述粉末层叠在关断板上，由于回压关断时所述关断板与密封件之间存在粉末而导致无法准确地密封，因此发生泄漏而无法实行回压关断功能。

而且，层叠在所述关断板上的粉末会引起关断板的质量变化，该现象会在关断时增加关断板的上升压力而使得关断板无法浮起，从而造成无法关断回压的严重问题。

而且，通用的一般闸阀(gate valve)无法执行回压关断功能，虽然由于其结构不具备流路曲折的蜿蜒(meander)形态而没有对瞬间流速增加及流体流动脆弱的问题，但粉末长时间层叠到内部驱动部及关断板上时粉末将存在于关断板与密封件之间而导致无法准确地密封，从而发生泄漏而无法发挥出关断功能。

发明内容

技术课题