[实用新型]一种显微式厚膜电路曝光对膜装置有效

专利信息
申请号: 201420799068.6 申请日: 2014-12-17
公开(公告)号: CN204256373U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 夏勇年;洪学毅;陈刚 申请(专利权)人: 珠海市华晶微电子有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 赵蕊红
地址: 519015 广东省珠海市南山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显微 式厚膜 电路 曝光 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及厚膜电路制备技术领域,特别是涉及一种显微式厚膜电路曝光对膜装置。

背景技术

随着电子产品的小型化发展,厚膜电路的制备要求也随之发生改变。为了适应小型化要求,需要在不同的几班上通过曝光及刻蚀显影等工艺制备而形成高精度的微小孔,这种微小孔要求孔径在1mm以下,孔径误差小于正负0.005mm。

现有技术中,孔的制备过程是通过手工对版然后进行曝光显影完成孔的制备。但是,因为微小孔的孔径要求,无法通过手工对版实现如此高精度微小孔的制备,只能通过昂贵的设备进行。

因此,针对现有技术不足,提供一种显微式厚膜电路曝光对膜装置能够通过简单对版实现高精度微小孔的制备甚为必要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于避免现有技术中的不足之处而提供一种显微式厚膜电路曝光对膜装置,该显微式厚膜电路曝光对膜装置能够准确实现。

本实用新型的上述目的通过如下技术手段实现。

提供一种显微式厚膜电路曝光对膜装置,设置有工作台、两套以上的显微成像装置、与每套显微成像装置对应设置的位置调节装置、显示装置和真空抽吸装置;

所述工作台设置有工作区,所述真空抽吸装置与工作区连通,所述显微成像装置位于所述工作区上方,所述显示装置与所述显微成像装置电连接。

上述显微成像装置设置为电子摄像机或者CCD摄像机,所述显微成像装置的镜头位于所述工作台上方。

上述每套位置调节装置设置有Z向固定杆、X向固定杆、Y向固定杆、第一联接调节座和第二联接调节座;

所述Z向固定杆固定于所述工作台,Z向固定杆垂直于工作台所在的平面,X向固定杆与工作台所在的平面平行且X向固定杆垂直于Z向固定杆,Y向固定杆与工作台所在的平面平行且Y向固定杆垂直于X向固定杆,所述Z向固定杆和所述X向固定杆的一端分别装配于所述第一联接调节座,所述X向固定杆和所述Y向固定杆分别装配于所述第二联接调节座,所述显微成像装置固定于所述Y向固定杆。

上述第一联接调节座设置有Z向套环、Z向旋钮和X向装配环;

所述Z向套环套于所述Z向固定杆,所述X向装配环套于所述X向固定杆的一端,所述X向装配环与所述Z向套环固定连接;

所述Z向套环由两块Z向半环构成,两块Z向半环的一端固定连接,两块Z向半环的另一端通过锁紧螺钉锁紧,所述Z向套环设置有与所述Z向旋钮相匹配的Z向螺纹孔,所述Z向螺纹孔穿透于所述Z向套环的内壁面和外壁面。

上述第二联接调节座设置有X向套环、X向旋钮、Y向套环和Y向旋钮;

所述X向套环和所述Y向套环固定连接,所述X向套环套设于所述X向固定杆,所述Y向套环套设于所述Y向固定杆;

所述X向套环由两块X向半环构成,两块X向半环的一端固定连接,两块X向半环的另一端通过锁紧螺钉锁紧,所述X向套环设置有与所述X向旋钮相匹配的X向螺纹孔,所述X向螺纹孔穿透于所述X向套环的内壁面和外壁面;

所述Y向套环由两块Y向半环构成,两块Y向半环的一端固定连接,两块Y向半环的另一端通过锁紧螺钉锁紧,所述Y向套环设置有与所述Y向旋钮相匹配的Y向螺纹孔,所述Y向螺纹孔穿透于所述Y向套环的内壁面和外壁面。

上述Y向固定杆的端部设置有固定环,所述显微成像装置通过固定环固定装配于所述Y向固定杆。

优选的,上述显微式厚膜电路曝光对膜装设置有两套显微成像装置。

优选的,上述显示装置设置为显示器。

本实用新型的显微式厚膜电路曝光对膜装置,设置有工作台、两套以上的显微成像装置、与每套显微成像装置对应设置的位置调节装置、显示装置和真空抽吸装置;所述工作台设置有工作区,所述真空抽吸装置与工作区连通,所述显微成像装置位于所述工作区上方,所述显示装置与所述显微成像装置电连接。 通过该显微式厚膜电路曝光对膜装置进行厚膜电路对膜,先将厚膜电路的陶瓷基片放在工作区,开启真空抽吸装置将陶瓷基片吸牢,通过显微成像装置将陶瓷基片上的“对位标识图案”清晰显示在显示装置的屏幕中;然后再放上菲林对版膜,通过显微成像装置继续获取对版膜的“对位标识图案”;在显示装置的显示窗口指引下,调节菲林对版膜的位置,使得陶瓷基片与对版膜的“对位标识图案”互相吻合,实现陶瓷基片与菲林对版膜的准确对位,然后关闭真空吸附装置,将对准后的陶瓷基片与菲林对版膜整体取出进行曝光显影处理。显微式厚膜电路曝光对膜装置可以对微小尺寸的对位标识图案进行准确对位,能够适应电子产品小型化趋势下各种微小孔的曝光显影制备,具有精确度高,结构简单、操作方便的特点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海市华晶微电子有限公司,未经珠海市华晶微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420799068.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top