[实用新型]一种用于反应釜的加氢喷射器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空设备领域，更具体地说，它涉及一种用于反应釜的加氢喷射器。

背景技术

目前，为了能够让反应釜内的反应更加完全，在反应釜的顶端经常需要增加一个喷射器，将位于反应釜顶部未反应完全的氢气，抽吸到反应釜底部进行重复反应，现有的喷射器，大部分具有三个管口：动力源入口、吸入管口和排出管口，该结构的喷射器通过外吸口吸入气体时，具有阻力大、吸气量少等缺点，这样的话，虽然在反应釜的顶端增加了一个喷射器，但是所起到效果仍然十分有限，为解决该问题，申请号为 201220021373.3的实用新型专利公开了一种反应釜加氢喷射器，通过在接受室上开设若干小孔，减少了外吸时的吸气阻力，使吸气量更大，从而加速了反应速度，但是在使用时，有时候位于反应釜内的反应已经十分剧烈，此时则需要暂停加入氢气，而且由于反应的时间段不同，所需要加入的氢气的速度以及氢气的量也是不同的，但是由于小孔的大小是不变的，无法起到相应的调节功能；同时，若不及时的实现孔的改变，则又无法实时的调整氢气的通入量来配合反应釜内的反应。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的主要目的在于提供一种能逐个封住小孔、改变氢气通入量的用于反应釜的加氢喷射器。

为实现上述主要目的，本实用新型采用如下技术方案：一种用于反应釜的加氢喷射器，包括依次同轴设置的接受室、混合室、喉管以及扩散室，所述接受室、混合室、喉管以及扩散室均相互连通，所述接受室位于反应釜内部的部分设有若干孔，所述孔沿所述接受室的深度方向延伸且处于同一直线上，所述接受室沿所述孔的分布方向上设有插槽，所述插槽内沿所述插槽的深度方向滑移连接有插条，所述插条上设有能逐个封住所述孔的封堵结构，所述插条上还设有用于读取堵头封住所述孔的个数的刻度线。

作为优选，所述封堵结构包括端面呈弧状且与所述孔对应设置的堵头，所述堵头的中心处设有容纳槽，所述容纳槽的底壁与所述插条之间抵设有弹性件。

作为优选，所述封堵结构包括于所述孔对应设置的堵头组，所述堵头组包括端面均呈弧状的正堵头与反堵头，所述正堵头与反堵头能相对滑移，所述正堵头与反堵头的接触面的中心处均向内凹陷形成有安置腔，两个所述安置腔的底壁上抵接有弹性件，所述正堵头与反堵头之间还设有用于防止所述正堵头与反堵头在相对滑移过程中脱离的限位结构。

作为优选，所述反堵头上设有与所述安置腔同轴的环形槽，所述环形槽远离所述安置腔的一侧形成滑条，所述滑条上设有凸台，所述正堵头上设有与所述滑条相配合的滑槽，所述滑槽的侧壁上设有与所述凸台相配合的卡槽，所述滑条、凸台、滑槽以及卡槽构成所述限位结构。

本实用新型相对现有技术相比具有：通过堵头和弹簧的配合，可以方便的实现逐个封住小孔的目的，有效的改变了氢气的通入量，快捷的实现了氢气通入量的调节；而在实际的生产情况中，可以根据小孔来设置几个通氢气的档位，进而通过堵头和小孔的配合，再通过插条上刻度线的读取，来实时的了解小孔被堵住多少，进而来实现档位调节的氢气通入量的功能，方便生产过程的控制，提高生产的效率；而堵头组的设置，则能够从插条的正、反两个方向来进行对小孔的封堵，进一步减小了小孔和正堵头、反堵头之间的间隙，增强了小孔和堵头组之间的密封性，减小了氢气因间隙过大而依然较高量的持续进入接受室，来加快反应，致使达不到调节氢气通入量的目的；卡槽和凸台的配合，使得正堵头和反堵头并不能够相互脱离，从而能够有效避免堵头组卡在小孔中的情况。

附图说明

图1为本实用新型用于反应釜的加氢喷射器实施例的结构示意图；

图2为图1的内部结构示意图；

图3为图2的剖面图；

图4为图3中的A部放大结构示意图；

图5为图3中的A部放大另一结构示意图。

图中：1、接受室；11、小孔；12、插槽；2、混合室；3、喉管；4、扩散室；5、插条；51、刻度线；6、堵头；61、弧面；62、容纳槽；7、弹簧；8、堵头组；81、正堵头；811、安置腔；812、滑槽；813、卡槽；82、反堵头；821、环形槽；822、滑条；823、凸台。

具体实施方式

参照图1至图5对本实用新型用于反应釜的加氢喷射器实施例作进一步说明。