[实用新型]一种用于反应釜的加氢喷射器有效
申请号: | 201420788146.2 | 申请日: | 2014-12-13 |
公开(公告)号: | CN204320243U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 李剑清;郭海军 | 申请(专利权)人: | 杭州隆达真空设备有限公司 |
主分类号: | B01J3/02 | 分类号: | B01J3/02;B01J19/26;B01J4/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 311107 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 反应 加氢 喷射器 | ||
1.一种用于反应釜的加氢喷射器,包括依次同轴设置的接受室、混合室、喉管以及扩散室,所述接受室、混合室、喉管以及扩散室均相互连通,所述接受室位于反应釜内部的部分设有若干孔,所述孔沿所述接受室的深度方向延伸,其特征是:所述接受室沿所述孔的分布方向上设有插槽,所述插槽内沿所述插槽的深度方向滑移连接有插条,所述插条上设有能逐个封住所述孔的封堵结构,所述插条上还设有用于读取堵头封住所述孔的个数的刻度线。
2.根据权利要求1所述的用于反应釜的加氢喷射器,其特征是:所述封堵结构包括端面呈弧状且与所述孔对应设置的堵头,所述堵头的中心处设有容纳槽,所述容纳槽的底壁与所述插条之间抵设有弹性件。
3.根据权利要求1所述的用于反应釜的加氢喷射器,其特征是:所述封堵结构包括于所述孔对应设置的堵头组,所述堵头组包括端面均呈弧状的正堵头与反堵头,所述正堵头与反堵头能相对滑移,所述正堵头与反堵头的接触面的中心处均向内凹陷形成有安置腔,两个所述安置腔的底壁上抵接有弹性件,所述正堵头与反堵头之间还设有用于防止所述正堵头与反堵头在相对滑移过程中脱离的限位结构。
4.根据权利要求3所述的用于反应釜的加氢喷射器,其特征是:所述反堵头上设有与所述安置腔同轴的环形槽,所述环形槽远离所述安置腔的一侧形成滑条,所述滑条上设有凸台,所述正堵头上设有与所述滑条相配合的滑槽,所述滑槽的侧壁上设有与所述凸台相配合的卡槽,所述滑条、凸台、滑槽以及卡槽构成所述限位结构。
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