[实用新型]一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及工业废水的回收处理设备，尤其涉及一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置。

背景技术

随着各种电子产品迅速风靡全球，PCB产业业已成为当代电子元件业中最活跃的产业。

蚀刻作为PCB制程中的重要工艺，酸性蚀刻液因为具有侧蚀小、速率易于控制和易再生等特点，被广泛应用。在蚀刻过程中，Cu2+与Cu作用生成Cu+，随着蚀刻反应的进行，Cu+数量越来越多，Cu2+减少，蚀刻液蚀刻能力很快下降，为保持稳定蚀刻能力，需加入氧化剂使Cu+尽快转化为Cu2+，一般添加H2O2或NaClO3等氧化剂，但这些氧化剂成本相对较高，造成生产成本的激增；当蚀刻缸内Cu2+浓度达到一定数值时或者蚀刻缸的溶液超过一定体积时，需要及时排除部分蚀刻液以保证蚀刻工序的正常运转。

对蚀刻废液的再生处理一般采用萃取法或电解法，其中，在用电解法对蚀刻废液中铜离子进行再生的过程中，主要的步骤是氯气将亚铜离子氧化为二价铜离子，然而现有的电解装置中存在氯气与亚铜离子接触几率低，氧化反应不充分的问题，即多数氯气还没来得及与亚铜离子碰撞接触就已经挥发出去，致使铜离子再生效率低，达不到要求；而且，现有的装置是在敞开的电解槽中进行反应，挥发的氯气排入空气中不利于环保。

有鉴于此，我们迫切需要一种新的装置来解决上述技术问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种可提高铜离子再生率及符合环保要求的含铜离子蚀刻液循环回收处理装置。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，包括：

密封的电解槽，该电解槽内设有复合隔膜，该复合隔膜将电解槽分为阴极室和阳极室，该电解槽与生产线蚀刻缸相连通；

氯气储存器，用于储存氯气，该氯气储存器通过导管与阳极室的底部相连；

氯气发生装置，用于产生氯气，该氯气发生装置与氯气储存器相连，且二者之间设置一通断阀门；及

循环管道，该循环管道上端连接电解槽的顶部，下端连接氯气储存器。

进一步地，所述循环管道上设有允许气体由上往下流动的单通阀。

进一步地，所述循环管道上设有将电解槽内气体往阳极室底部泵入的气泵。

进一步地，所述阳极室的底部设有与所述导管连接的气泡盘或气泡石。

进一步地，所述电解槽的顶部设有抽真空装置。

本实用新型相比于现有技术具有如下优势：

一、通过氯气发生装置产生纯净氯气，并导入电解槽中，可确保蚀刻废液中的亚铜离子得到充分氧化，提高蚀刻废液中铜离子的再生率；

二、通过在电解槽底部设置气泡盘或气泡石，有利于氯气与溶液的均匀混合，增大氯气与亚铜离子的碰撞几率，使反应充分，进一步提高铜离子的再生率；

三、整个过程是在密封环境中进行，废气得到很好控制，不会造成环境污染，符合环保要求。

附图说明

图1为本实用新型一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置的结构示意图。

其中：1、电解槽；11、复合隔膜；12、阴极室；13、阳极室；2、氯气储存器；21、导管；3、氯气发生装置；31、通断阀门；4、循环管道；41、气泵；42、单通阀；51、气泡盘；6、抽真空装置。

具体实施方式

下面，结合附图以及具体实施方式，对本实用新型做进一步描述：

请参阅图1，本实用新型提供一种含铜离子蚀刻液循环回收处理装置，包括：

密封的电解槽1，该电解槽1与生产线蚀刻缸(图未示)相连通；所述生产线蚀刻缸内进行正常的电路板蚀刻工序，当蚀刻缸内铜离子浓度低于预定值而影响蚀刻效果时，则通过管道将蚀刻液转移至电解槽1内进行铜离子再生，电解槽1内设有复合隔膜11，该复合隔膜11将电解槽1分为阴极室12和阳极室13；

氯气储存器2，用于储存氯气，该氯气储存器2通过导管21与阳极室13的底部相连；

氯气发生装置3，用于产生纯净氯气，该氯气发生装置3与氯气储存器2相连，且二者之间设置一通断阀门31；及

循环管道4，该循环管道4上端连接电解槽1的顶部，下端连接氯气储存器2，该循环管道4用于将气体由上往下传导至阳极室13底部。

本实用新型的工作原理如下：