[实用新型]用于检测可透光基材的基材缺陷检测装置

说明书

技术领域

本实用新型系有关于一种缺陷检测装置，尤指一种藉由判断薄膜基材表面是否有刮伤缺陷的存在以达到提升薄膜基材检测速度及准确性的基材缺陷检测装置。

背景技术

现今之产品大都以大量生产来降低生产成本，而大量生产的同时，检测装置如何能有效地检测成为重要的课题之一，而在产品生产前，制作产品所需之材料大都须先经检测，藉以淘汰具有缺陷的材料，进而提高产品之良率且降低生产成本。

许多产品系以基材制造生产，因此，基材检测对于生产之良率具有不可忽视之影响，其中，基材的检测常需要确认或基材之正反两表面是否有缺陷，例如：凹陷、凸起、破损、擦伤或刮伤等问题。

因此为了提供质量优选的基材，通常会通过人工进行目视检测，通过将基材设置于一输送装置上，并以人眼进行观测，检测该些基材是否有瑕疵，并纪录该些瑕疵区域。然而，上述通过人眼进行检测的方式，容易因为眼睛在长时间的观测下而产生疲劳或误判，开始产生基材缺陷辨别率下降的情形，且对于单一产品的缺陷判断标准也会不一致。此外，也由于是通过人眼进行检测，因此基材在输送装置上的速度也不能太快。进一步来说，当缺陷很小时，或是待检测的基材是薄膜基材时，人眼就无法进行辨识，若要辨识也需要通过影像放大器进行观测，然而，还是会产生前述问题。

因此，如何提供一种能够将改善基材表面缺陷辨识率，以克服上述的缺失，已然成为该项事业所欲解决的重要课题之一。

实用新型内容

鉴于以上之问题，本实用新型提供一种用于检测可透光薄膜基材的基材缺陷检测装置，乃藉由薄膜基材上的瑕疵区域偏折投射检测光源至线性影像撷取单元的截取范围中，来判断基材表面是否有缺陷的存在，以达到提升薄膜基材检测速度及准确性的基材缺陷检测装置。

为了达到上述之目的，本实用新型之实施例系是提供一种用于检测可透光基材的基材缺陷检测装置，其包括一光源模块、一检测模块及一控制模块。所述光源模块具有一发光区及一暗区，所述暗区环设于所述发光区的周围，所述发光区具有一照射在位于一检测区域内的所述基材上的检测光源，其中所述发光区界定有一光学中心轴。所述检测模块与所述光源模块彼此相对应设置，所述检测模块包括一用于撷取位于所述检测区域内的所述基材的影像信息的线性影像撷取单元，其中所述线性影像撷取单元具有一检测中心轴及投射于所述暗区的截取范围，所述检测中心轴非同轴于所述光学中心轴。所述控制模块电性连接于所述检测模块，以接收所述检测模块所撷取到的影像信息，其中所述影像信息通过所述控制模块的运算，以得到一位于所述基材上的瑕疵区域的一瑕疵信息。其中，所述检测光源通过位于所述基材上的所述瑕疵区域，偏折投射在所述线性影像撷取单元的所述截取范围中。

其特征在于，所述线性影像撷取单元的所述截取范围直接穿过所述基材而投影在所述光源模块的所述暗区范围上。

其特征在于，所述截取范围邻近于所述光源模块的所述发光区。

其特征在于，所述检测中心轴与所述光学中心轴相互平行。

其特征在于，还进一步包括一输送模块，所述输送模块包括多个滚轮，以输送所述基材至一检测区域。

其特征在于，所述光源模块设置于所述基材的一第一侧边，所述检测模块设置于所述基材的一第二侧边。

其特征在于，所述基材为具有透光性的薄膜。

其特征在于，所述光源为线性光源。

其特征在于，所述撷取范围小于所述检测光源投射于所述基材上的投射面积的30％。

其特征在于，通过调整所述线性影像撷取单元至所述基材之间的距离，以调整所述线性影像撷取单元的所述截取范围。

本实用新型的有益效果可以在于，本实用新型实施例所提供的用于检测可透光基材的基材缺陷检测装置，通过检测中心轴与光学中心轴非同轴的设置，并使得线性影像撷取单元的截取范围直接穿过基材而投影在光源模块的暗区上，再通过调整检测模块与光源模块之间的位置关系，使得线性影像撷取单元的截取范围邻近于光源模块的发光区上。藉此，能藉由基材上的瑕疵区域偏折投射检测光源至线性影像撷取单元的截取范围中，藉此能够判断基材是否有缺陷的存在。

为使能更进一步了解本实用新型的特征及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，然而所附图式仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。

附图说明

图1A为本实用新型的其中一前视示意图。

图1B为本实用新型的基材的放大示意图。

图1C为本实用新型的其中一光轴路径的示意图。