[实用新型]氧化镁涂覆量的测定装置

说明书

技术领域

本实用新型属于取向硅钢生产技术领域，具体是指一种氧化镁涂层涂覆量的测定装置。

背景技术

取向电工钢的工艺中需要在热处理过程中对半成品取向钢表面均匀涂抹氧化镁，然后将钢卷吊入高温环形炉退火。氧化镁涂层涂覆量的控制是工艺控制的重要指标，对硅酸镁底层形成及后期成品钢卷成材率造成极大影响。

一般的对涂层涂覆量的测量方法为重量法，即通过刮取单位面积钢板表面的氧化镁粉末测定钢板表面氧化镁涂覆量，这种方法对于粉末取样及重量称量要求较高，测量不确定度较大，同时测试较为繁琐，且是一种破坏性试验。

现阶段最新的氧化镁涂层涂覆量理论方法为X光吸收法，此方法具有检测简便、测量速度快、且属于非破坏性试验的特点，但是运用此检测原理的装置仍然是空白。

发明内容

针对背景技术中的不足，本实用新型的目的在于提出一种运用X光吸收法测定半工序取向硅钢上下表面氧化镁涂层涂覆量的测定装置。

为达到上述目的，本实用新型设计的氧化镁涂覆量的测定装置，包括机架，其特征在于：所述机架上设有容置试样的试样槽；所述试样槽的上方或下方设有平行所述试样槽的滑轨，所述滑轨上设有涂覆量检测仪，所述涂覆量检测仪在驱动单元驱动下在滑轨上往复运动；所述涂覆量检测仪包括一端开口壳体，所述壳体内设有X射线发生器和探测X射线经试样表面反射的X光强的X射线检测器。

进一步地，所述壳体的开口端设有防尘膜。

进一步地，所述驱动单元连接一限速器。这样，防止涂覆量测量仪在滑轨上移动过快。

进一步地，所述试样槽的上方和下方均设有滑轨，所述试样槽设有第一通孔。这样，使得试样的上下表面均暴露在外，可同时测量试样上下表面的涂覆量。

进一步地，所述机架上且是位于试样槽一侧设有多个容置校样的校样槽，所述校样槽与所述试样槽位于同一水平面。

更进一步地，所述校样槽的上方和下方均设有滑轨，所述校样槽上设有第二通孔。这样，使得校样的上下表面均暴露在外，可同时测量校样上下表面的涂覆量，用于校正。

进一步地，所述试样槽位于试样抽屉内，所述试样抽屉与所述机架滑动连接。通过抽屉式的设计，方便试样的取放。

进一步地，多个所述校样槽位于校样抽屉内，所述校样抽屉与所述机架滑动连接。通过抽屉式的设计，方便取放校样。

进一步地，所述机架上设有工作指示灯。

进一步地，所述机架置于具有隔离X射线功能的金属外壳内。

更进一步地，所述金属外壳一侧壁设有涂覆量检测仪维护门。

进一步地，所述滑轨两端设有限位器。这样，可防止涂覆量测量仪碰撞金属外壳。

本实用新型的有益效果是：使破坏性试验变为非破坏性试验可进行重复测量；检测速度快完成三点测量仅需一分钟，而传统重量法需要十分钟；减少重量法测试过程中粉尘飞扬的情况，利于保护实验室环境；方法简便减少劳动强度。

附图说明

图1是本实用新型氧化镁涂覆量的测定装置的剖视示意图；

图2是本实用新型氧化镁涂覆量的测定装置的立体示意图；

图3是本实用新型氧化镁涂覆量的测定装置试样抽屉的立体示意图；

图4是本实用新型氧化镁涂覆量的测定装置校样抽屉的立体示意图；

图中：机架1、试样槽2(第一通孔2.1)、滑轨3、涂覆量检测仪4(开口壳体4.1、X射线发生器4.2、X射线检测器4.3、防尘膜4.4)、驱动单元5、限速器6、校样槽7(第二通孔7.1)、试样抽屉8、校样抽屉9、指示灯10、金属外壳11、涂覆量检测仪维护门12。

具体实施方式

如图1和图2所示，本实用新型设计的氧化镁涂覆量的测定装置，包括机架1，所述机架1上设有容置试样的试样槽2；所述试样槽2的上方或下方设有平行所述试样槽的滑轨3，所述滑轨3上设有涂覆量检测仪4，所述涂覆量检测仪4在驱动单元5驱动下在滑轨3上往复运动；所述涂覆量检测仪4包括一端开口壳体4.1，且开口端为靠近试样表面的一侧，所述壳体4.1内设有X射线发生器4.2和探测X射线发生器4.2发射的X射线经试样表面反射的X光强的X射线检测器4.3。所述壳体4.1的开口端设有防尘膜4.4。

再如图1所示，进一步地，所述驱动单元5连接一限速器6。这样，防止涂覆量测量仪4在滑轨3上移动过快。

如图2所示，进一步地，所述机架1上且是位于试样槽2一侧设有多个容置校样的校样槽7，所述校样槽7与所述试样槽2位于同一水平面。