[实用新型]氧化镁涂覆量的测定装置有效

申请号：	201420688631.2	申请日：	2014-11-14
公开（公告）号：	CN204203130U	公开（公告）日：	2015-03-11
发明（设计）人：	张俊鹏;邱忆;黄双;向前;李忠武;张婷婷;张旭;叶国民;徐利军	申请（专利权）人：	武汉钢铁（集团）公司
主分类号：	G01N23/20	分类号：	G01N23/20
代理公司：	武汉开元知识产权代理有限公司 42104	代理人：	胡镇西
地址：	430080 湖北省武汉市武昌***	国省代码：	湖北;42
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摘要：
搜索关键词：	氧化镁涂覆量测定装置
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【权利要求书】：

1.一种氧化镁涂覆量的测定装置，包括机架(1)，其特征在于：所述机架(1)上设有容置试样的试样槽(2)；所述试样槽(2)的上方或下方设有平行所述试样槽(2)的滑轨(3)，所述滑轨(3)上设有涂覆量检测仪(4)，所述涂覆量检测仪(4)在驱动单元(5)驱动下在滑轨(3)上往复运动；所述涂覆量检测仪(4)包括一端开口壳体(4.1)，所述壳体(4.1)内设有X射线发生器(4.2)和探测X射线经试样表面反射的X光强的X射线检测器(4.3)。

2.根据权利要求1所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述壳体(4.1)的开口端设有防尘膜(4.4)。

3.根据权利要求1所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述驱动单元(5)连接一限速器(6)。

4.根据权利要求1所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述试样槽(2)的上方和下方均设有滑轨(3)，所述试样槽(2)设有第一通孔(2.1)。

5.根据权利要求4所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述试样槽(2)位于试样抽屉(8)内，所述试样抽屉(8)与所述机架(1)滑动连接。

6.根据权利要求1所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述机架(1)上且是位于试样槽(2)一侧设有多个设有容置校样的校样槽(7)，所述校样槽(7)与所述试样槽(2)位于同一水平面。

7.根据权利要求6所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：多个所述校样槽(7)位于校样抽屉(9)内，所述校样抽屉(9)与所述机架(1)滑动连接。

8.根据权利要求1所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述机架(1)上设有工作指示灯(10)。

9.根据权利要求1所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述滑轨(3)两端设有限位器。

10.根据权利要求1-9中任一所述的氧化镁涂覆量的测定装置，其特征在于：所述机架(1)置于具有隔离X射线功能的金属外壳(11)内，所述金属外壳(11)一侧壁设有涂覆量检测仪维护门(12)。

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