[实用新型]用于检测基材的基材缺陷检测装置有效
申请号: | 201420653472.2 | 申请日: | 2014-11-04 |
公开(公告)号: | CN204214788U | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 许轩兢 | 申请(专利权)人: | 香港商微觉视检测技术股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 检测 基材 缺陷 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种缺陷检测装置,尤其涉及一种通过判断基材表面是否存在缺陷来达到提高基材检测速度和准确性的基材缺陷检测装置。
背景技术
现今的产品大都以大量生产来降低生产成本,而大量生产的同时,检测装置如何能有效地检测成为重要的课题之一,而在产品生产前,制作产品所需的材料大都需要先经检测,借此淘汰具有缺陷的材料,进而提高产品的优良率且降低生产成本。
许多产品是以基板或基材制造生产,因此,基板或基材检测对于生产的优良率具有不可忽视的影响,其中,基板或基材的检测常需要确认基板或基材的正反两表面是否有缺陷,例如:凹陷、凸起、破损、擦伤、异物吸附或是基材密度不均等问题。
因此,为了提供质量较佳的基板或基材,通常会通过人工进行目视检测,通过将基板或基材设置于一输送装置上,并以人眼进行观测,检测这些基板或基材是否有瑕疵,并记录这些瑕疵区域。然而,上述通过人眼进行检测的方式,容易因为眼睛在长时间的观测下而产生疲劳或误判,开始产生基板或基材缺陷辨别率下降的情形,且对于单一产品的缺陷判断标准也会不一致。此外,也由于是通过人眼进行检测,因此基板或基材在输送装置上的速度也不能太快。进一步来说,若基板或基材的厚度越薄,缺陷越小时,人眼的辨识率可能会无法辨识。
因此,如何提供一种能够将改善基板或基材表面缺陷辨识率,同时以克服上述的缺陷,已经成为该领域亟待解决的重要课题之一。
实用新型内容
鉴于以上的问题,本实用新型提供一种借助基材上的瑕疵区域将检测光源偏折投射至线性影像撷取单元的截取范围中,来判断基材表面是否有缺陷的存在,以达到提高基材检测速度和准确性的基材缺陷检测装置。
为了达到上述的目的,本实用新型的其中一个实施方式是提供一种用于检测基材的基材缺陷检测装置,其包括一光源模块、一检测模块以及一控制模块。所述光源模块用于产生一照射在位于一检测区域内的所述基材上的检测光源,所述光源模块具有一第一发光面及一第二发光面,且所述第一发光面及所述第二发光面之间具有一暗区范围。所述检测模块与所述光源模块彼此相对应设置,所述检测模块包括一用于撷取位于所述检测区域内的所述基材的影像信息的线性影像撷取单元,其中所述线性影像撷取单元具有一等于或大于所述暗区范围的截取范围。所述控制模块电性连接于所述检测模块,以接收所述检测模块所撷取到的所述影像信息,其中所述影像信息通过所述控制模块的运算,以得到一位于所述基材上的瑕疵区域的一瑕疵信息。其中,所述第一发光面及所述第二发光面两者其中之一通过所述瑕疵区域,以偏折投射在所述线性影像撷取单元的所述截取范围中。
进一步地,所述光源模块包括一第一发光单元、一第二发光单元及一定位座,所述定位座设置于所述第一发光单元及所述第二发光单元两者的旁侧,其中所述第一发光单元及所述第二发光单元分别具有所述第一发光面及所述第二发光面,所述第一发光单元及所述第二发光单元之间彼此间隔一预定距离,通过转动所述定位座以界定出所述暗区范围。
进一步地,所述光源模块上设置有一遮光单元,以产生所述暗区范围。
进一步地,通过调整所述线性影像撷取单元至所述基材之间的距离,以调整所述线性影像撷取单元的所述截取范围的大小。
进一步地,通过调整所述光源模块至所述基材之间的距离,以调整所述线性影像撷取单元的所述截取范围投影在所述暗区范围的大小。
进一步地,所述光源为线性光源。
进一步地,所述光源模块设置于所述基材的一第一侧边,所述检测模块设置于所述基材的一第二侧边。
进一步地,所述线性影像撷取单元的所述截取范围直接穿过所述基材而投影在所述光源模块的所述暗区范围上。
进一步地,所述光源模块及所述检测模块都设置于所述基材的一第一侧边,所述光源模块通过所述基材上的所述瑕疵区域,以反射所述检测光源至所述线性影像撷取单元中。
进一步地,所述线性影像撷取单元的所述截取范围投影在所述光源模块的所述暗区范围所投影在所述基材表面的范围上。
本实用新型的有益效果可以在于,本实用新型的实施方式所提供的用于检测基材的基材缺陷检测装置,能够通过线性影像撷取单元所获得的基材表面影像,来判断基材表面是否有缺陷的存在。换言之,借助基材上的瑕疵区域将检测光源偏折投射至线性影像撷取单元的截取范围中,来判断基材是否有缺陷的存在。
为了能更进一步了解本实用新型的特征和技术内容,请参考以下有关本实用新型的详细说明与附图,然而附图仅用于提供参考和说明,并非用来对本实用新型加以限制。
附图说明
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