[实用新型]用于检测基材的基材缺陷检测装置

权利要求书

1.一种用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，其包括：

一光源模块，所述光源模块用于产生一照射在位于一检测区域内的所述基材上的检测光源，所述光源模块具有一第一发光面及一第二发光面，且所述第一发光面及所述第二发光面之间具有一暗区范围；

一检测模块，所述检测模块与所述光源模块彼此相对应设置，所述检测模块包括一用于撷取位于所述检测区域内的所述基材的影像信息的线性影像撷取单元，其中所述线性影像撷取单元具有一等于或大于所述暗区范围的截取范围；以及

一控制模块，所述控制模块电性连接于所述检测模块，以接收所述检测模块所撷取到的所述影像信息，其中所述影像信息通过所述控制模块的运算，以得到一位于所述基材上的瑕疵区域的一瑕疵信息；

其中，所述第一发光面及所述第二发光面两者其中之一通过所述瑕疵区域，以偏折投射在所述线性影像撷取单元的所述截取范围中。

2.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述光源模块包括一第一发光单元、一第二发光单元及一定位座，所述定位座设置于所述第一发光单元及所述第二发光单元两者的旁侧，其中所述第一发光单元及所述第二发光单元分别具有所述第一发光面及所述第二发光面，所述第一发光单元及所述第二发光单元之间彼此间隔一预定距离，通过转动所述定位座以界定出所述暗区范围。

3.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述光源模块上设置有一遮光单元，以产生所述暗区范围。

4.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，通过调整所述线性影像撷取单元至所述基材之间的距离，以调整所述线性影像撷取单元的所述截取范围的大小。

5.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，通过调整所述光源模块至所述基材之间的距离，以调整所述线性影像撷取单元的所述截取范围投影在所述暗区范围的大小。

6.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述光源为线性光源。

7.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述光源模块设置于所述基材的一第一侧边，所述检测模块设置于所述基材的一第二侧边。

8.根据权利要求7所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述线性影像撷取单元的所述截取范围直接穿过所述基材而投影在所述光源模块的所述暗区范围上。

9.根据权利要求1所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述光源模块及所述检测模块都设置于所述基材的一第一侧边，所述光源模块通过所述基材上的所述瑕疵区域，以反射所述检测光源至所述线性影像撷取单元中。

10.根据权利要求9所述的用于检测基材的基材缺陷检测装置，其特征在于，所述线性影像撷取单元的所述截取范围投影在所述光源模块的所述暗区范围所投影在所述基材表面的范围上。