[实用新型]用于运送被传送通过过程管道的过程流体的工业过程组件

说明书

背景技术

本实用新型涉及过程控制系统。具体地，本实用新型涉及工业过程中的夹片环(wafer ring)和凸缘。

在加工工厂中，流体通过管道被传送至各种处理元件。管道包括通过配件连接到一起的单个的管道部分。诸如传感器和阀之类的元件可以通过将元件放置在两个管道部分的配件之间来插入管道中。

在通常的构造中，夹片环被放置在两个管道部分之间。夹片环包括围绕至少一个流体流动通道环状地设置的外环。一个或更多个孔沿径向方向通过外环。传感器可以被插入通过径向孔以与流体相互作用，和/或管道可以插入径向孔以引导流体至安装在该管道外侧的传感器。进一步地，孔板、平均皮托管、与过程流体相互作用的其它的流动障碍物或其它的构件可以放置在夹片环的流体流动通道中。

一些夹片环通过将夹片环夹在随后通过螺母和螺栓连接到一起的两个凸缘配件之间来安装在过程管之间。凸缘配件一般包括焊接到管的端部处的衬圈、与管的内孔对准的孔、绕孔延伸的环状密封部分和绕环状密封部分延伸的凸缘部分。凸缘部分包括具有容纳用于将该配件连接到另一配件的螺栓的数个通孔的平面。环状密封部分具有被设计以在配件联结点处与一个或更多个其它的元件配合并且与该一个或更多个其它的元件密封的密封表面。

存在多种不同类型的密封表面，包括平坦式、凸起式、环型接合式(RTJ)、榫槽式、凸凹式。

平坦式密封表面与凸缘部分的表面共面，这导致当该凸缘配件与另一凸缘配件密封时产生大的配合面积。凸起式密封表面相对于凸缘部分的表面凸起，导致更小的密封表面但更大的密封压力。RTJ密封表面是包括被设计以容纳金属密封环的环状沟道的凸起表面。当凸缘配件被螺栓固定到一起时，金属密封环被压缩，这促使该金属密封环 与环状沟道的表面紧密接触，并且从而与沟道形成金属密封。榫槽式密封表面包括榫舌和沟槽中的一个，并且被设计成与包括榫舌和沟槽中的另一个的相对的密封表面进行配合。凸凹式密封表面包括内环状圆环和外环状圆环中的一个，并且被设计成与包括内环状圆环和外环状圆环中的另一个的相对的密封表面进行配合。

实用新型内容

用于运送被传送通过过程管道的过程流体的工业过程组件包括具有第一类型的密封表面的夹片装置，和具有与第一类型不同的第二类型的密封表面的配件。夹片装置(wafer)包括用于运送过程流体的孔，并且配件附接至过程管道。适配器具有用于与夹片装置的密封表面配合的第一密封表面，和用于与配件的密封表面配合的第二密封表面。适配器放置在夹片装置和配件之间。

用于传送过程流体的夹片装置-配件密封适配器包括具有与用于传输过程流体的夹片装置的内孔的直径相同的直径的内孔、第一密封表面、和与第一密封表面相对的第二密封表面。第二密封表面具有平面区域和延伸远离该平面区域并且具有与配件上的环状沟道的直径相同的直径的一体的环状突出部。

用于插入用于传送过程流体的过程管道中的夹片装置组件包括夹片环、第一密封适配器和第二密封适配器。夹片环具有在第一侧的第一环状平面密封表面、在与第一侧相反的第二侧的第二环状平面密封表面、和用于传送过程流体的孔。第一密封适配器具有在面对夹片环的第一侧的第一侧上的平面密封表面和在第二侧上的非平面密封表面。第二密封适配器具有在面对夹片环的第二侧的第一侧上的平面密封表面和在第二侧上的非平面密封表面。

附图说明

图1是工业过程控制系统的简化示意图。

图2是图1的系统的一部分的横截面侧视图。

图3是图1的系统的分解透视图。

图4是图1的系统的一部分的分解横截面侧视图。

图5是第二实施例的工业过程组件的分解横截面侧视图。

图6是第三实施例的工业过程组件的分解横截面侧视图。

图7是第四实施例的工业过程组件的分解横截面侧视图。

图8是第五实施例的工业过程组件的分解横截面侧视图。

图9是第六实施例的工业过程组件的分解横截面侧视图。

图10是第七实施例的工业过程组件的分解横截面侧视图。

具体实施方式