[实用新型]用于运送被传送通过过程管道的过程流体的工业过程组件

权利要求书

1.一种用于运送被传送通过过程管道的过程流体的工业过程组件，其特征在于，所述工业过程组件包括：

夹片装置，所述夹片装置具有第一类型的密封表面和用于运送过程流体的孔；

配件，所述配件附接至过程管道并且具有与第一类型不同的第二类型的密封表面；

适配器，所述适配器具有用于与夹片装置的密封表面配合的第一密封表面和用于与配件的密封表面配合的第二密封表面，所述适配器位于夹片装置和配件之间。

2.根据权利要求1所述的工业过程组件，其特征在于，所述第一类型的密封表面是平面密封表面，第二类型的密封表面包括环状沟道。

3.根据权利要求2所述的工业过程组件，其特征在于，所述适配器的第一密封表面包括平面表面，所述适配器的第二密封表面包括环状沟道，其中所述工业过程组件还包括位于适配器的环状沟道中和配件的环状沟道中的环型接合垫圈。

4.根据权利要求2所述的工业过程组件，其特征在于，所述适配器的第一密封表面包括平面表面，所述适配器的第二密封表面包括环状突出部。

5.根据权利要求4所述的工业过程组件，其特征在于，还包括垫圈，所述垫圈位于配件和适配器的环状突出部之间的配件的环状沟道中。

6.根据权利要求4所述的工业过程组件，其特征在于，所述环状突出部位于配件的环状沟道中并且与其直接接触。

7.根据权利要求6所述的工业过程组件，其特征在于，通过配件的环状沟道使所述环状突出部变形。

8.根据权利要求7所述的工业过程组件，其特征在于，还包括垫圈，所述垫圈位于适配器和夹片装置之间。

9.根据权利要求8所述的工业过程组件，其特征在于，所述垫圈包括密封部分和装设部分，其中所述装设部分将适配器定位在夹片装置上，使得适配器的内孔对准夹片装置的孔。

10.根据权利要求1所述的工业过程组件，其特征在于，所述第一类型的密封表面是平面密封表面，所述第二类型的密封表面包括环状突出部，所述适配器的第二密封表面包括环状沟道，其中垫圈位于适配器和配件的环状突出部之间的环状沟道中。

11.根据权利要求1所述的工业过程组件，其特征在于，所述第一类型的密封表面是平面密封表面，所述第二类型的密封表面包括围绕平面密封表面的环状圆环，所述适配器的第二密封表面包括环状圆环，所述适配器的环状圆环位于配件的环状圆环中。

12.根据权利要求1所述的工业过程组件，其特征在于，所述第一类型的密封表面是平面密封表面，所述第二类型的密封表面包括环状凸密封表面，所述适配器的第二密封表面包括围绕平面表面的环状圆环，所述环状凸密封表面位于适配器的环状圆环中。

13.根据权利要求1所述的工业过程组件，其特征在于，所述夹片装置还包括位于夹片装置的孔中的孔板，用作流动障碍。

14.根据权利要求1所述的工业过程组件，其特征在于，所述夹片装置还包括位于夹片装置的孔中的平均皮托管。