[实用新型]适合光学测量设备的改进型基准尺

权利要求书

1.一种适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其包括：

基准尺本体，具有长轴方向延伸的工作平面；

至少三个基准点，设置于该基准尺本体的该工作平面上；以及

移动挡板滑块，以移动方式设置于基准尺本体上，该移动挡板滑块具有遮挡该基准点的遮挡面。

2.如权利要求1所述的适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其中所述的移动方式是滑槽与凸条的匹配、轴承与轴的匹配，或者是导向孔与导向轴的匹配。

3.如权利要求1所述的适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其中所述的移动挡板滑块与该基准尺本体之间设置有使该移动挡板滑块定位在该基准尺本体的预定位置的定位结构。

4.如权利要求1所述的适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其中所述的基准点为四个、五个、六个、七个或八个。

5.如权利要求3所述的适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其中所述的移动挡板滑块的个数比基准点的个数少两个。

6.如权利要求1所述的适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其中所述的基准尺本体呈槽钢形状，宽度为110mm；该基准点直径为15mm。

7.如权利要求1所述的适合光学测量设备的改进型基准尺，其特征在于其中所述的至少三个基准点的最外两端的基准点的距离为1200mm。