[实用新型]一种湿法刻蚀装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体制程设备，特别是涉及一种湿法刻蚀装置。

背景技术

在半导体制程中，湿法刻蚀通常是将带有二氧化硅以及氮化硅的晶圆置于腐蚀槽中对晶圆进行腐蚀；如图1所示，图1表示的是现有技术中的湿法刻蚀装置；其中腐蚀槽10中常常承载有磷酸溶液，为了提高氮化硅薄膜对二氧化硅的刻蚀选择比，磷酸被广泛地应用于氮化硅薄膜的刻蚀。由于腐蚀过程中，二氧化硅与磷酸溶液中的水反应生成的硅化物会形成不溶于磷酸的沉淀颗粒，而这些颗粒一方面可以导致浸泡在磷酸溶液中的晶圆16由于粘附硅化物颗粒而产生缺陷；为了使得磷酸溶液中的硅化物颗粒尽量少并且尽可能减小对晶圆造成的缺陷；与所述腐蚀槽10相通并相互连接的过滤器11用于在湿法清洗过程中过滤磷酸溶液中的硅化物沉淀。

在湿法刻蚀装置中，磷酸溶液通过位于所述腐蚀槽底面的若干进液口101进入腐蚀槽中，磷酸溶液充分与晶圆表面接触腐蚀后，通过与腐蚀槽10连接的第一管道12进去过滤器11中，然后磷酸溶液中的硅化物被过滤器过滤后又经过第二管道13进入腐蚀槽中，如此循环若干次待腐蚀完成后，腐蚀槽中的废液通过位于腐蚀槽10底部的若干排液口102排出。

而在现有的湿法刻蚀装置中，由于过滤器中长期积累杂质可能将过滤器堵塞；在过滤进行若干次后，技术人员需要对过滤器进行清洗或者更换新的过滤器，其中一种清洗方法是清将过滤器拆卸下来对过滤器进行清洗，而该过程复杂繁琐，延长待机时间，使得生产不得不停止且费时费力；另一种清洗方式是将湿法刻蚀过程中的磷酸替换为氢氟酸溶液对来溶液过滤器中的杂质，现有的腐蚀槽材料一般是石英，而氢氟酸对石英会造成腐蚀，使得腐蚀槽的使用寿命大大减小。

因此，有必要提出一种新的湿法刻蚀装置来解决上述问题。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种湿法刻蚀装置，用于解决现有技术中清洗过滤器过程中需要拆卸机台延长停机时间以及直接清洗时对腐蚀槽造成腐蚀而减小腐蚀槽使用寿命的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种湿法刻蚀装置，所述装置至少包括：腐蚀槽以及至少两个过滤器；所述腐蚀槽与每个过滤器通过第一、第二管道连接；所述第一、第二管道上分别对应设有第一、第二阀门；所述第一阀门与所述过滤器之间设有与所述第一管道相通的进液管；所述第二阀门与所述过滤器之间设有与所述第二管道相通的出液管。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，所述腐蚀槽为长方体槽；该腐蚀槽的底部还设置有分别紧密排列的若干进液口和若干排液口。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，所述清洗装置包括两个所述过滤器：第一、第二过滤器；所述第一、第二过滤器分别位于所述腐蚀槽的两侧。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，与所述第一过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的一侧；与所述第二过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的另一侧。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，所述腐蚀槽为长方体槽；所述清洗装置中包括四个过滤器：第一至第四过滤器；所述第一、第二过滤器位于所述腐蚀槽的一侧；所述第三、第四过滤器位于所述腐蚀槽的另一侧。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，分别与所述第一、第二过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的一侧；分别与所述第三、第四过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的另一侧。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，所述进液管连接有进水泵；所述出液管连接有抽水泵。

作为本实用新型的湿法刻蚀装置的一种优选方案，所述腐蚀槽中承载有若干晶圆和磷酸溶液。

如上所述，本实用新型的湿法刻蚀装置，具有以下有益效果：本实用新型的湿法刻蚀装置通过增加连接在腐蚀槽上的过滤器使得湿法清洗过程与清洗过滤器的过程互不影响，清洗过滤器时不会对腐蚀槽造成侵蚀，延长腐蚀槽的使用寿命；同时不用拆卸清洗装置即可将过滤器中的杂质清除，提高湿法清洗效率。

附图说明

图1为现有技术中的湿法刻蚀装置示意图。

图2为本实用新型中的一种湿法刻蚀装置示意图。

图3为本实用新型中的另一中湿法刻蚀装置示意图。

元件标号说明

10                      腐蚀槽

111                     第一过滤器

112                     第二过滤器