[实用新型]一种湿法刻蚀装置有效
申请号: | 201420593668.7 | 申请日: | 2014-10-14 |
公开(公告)号: | CN204138821U | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 胡春周 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 湿法 刻蚀 装置 | ||
1.一种湿法刻蚀装置,其特征在于,所述装置至少包括:
腐蚀槽以及至少两个过滤器;所述腐蚀槽与每个过滤器通过第一、第二管道连接;
所述第一、第二管道上分别对应设有第一、第二阀门;
所述第一阀门与所述过滤器之间设有与所述第一管道相通的进液管;所述第二阀门与所述过滤器之间设有与所述第二管道相通的出液管。
2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:所述腐蚀槽为长方体槽;该腐蚀槽的底部还设置有分别紧密排列的若干进液口和若干排液口。
3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:所述清洗装置包括两个所述过滤器:第一、第二过滤器;所述第一、第二过滤器分别位于所述腐蚀槽的两侧。
4.根据权利要求3所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:与所述第一过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的一侧;与所述第二过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的另一侧。
5.根据权利要求2所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:所述腐蚀槽为长方体槽;所述清洗装置中包括四个过滤器:第一至第四过滤器;所述第一、第二过滤器位于所述腐蚀槽的一侧;所述第三、第四过滤器位于所述腐蚀槽的另一侧。
6.根据权利要求5所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:分别与所述第一、第二过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的一侧;分别与所述第三、第四过滤器连接的第一、第二管道连接于所述腐蚀槽的另一侧。
7.根据权利要求4或6所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:所述进液管连接有进水泵;所述出液管连接有抽水泵。
8.根据权利要求1所述的湿法刻蚀装置,其特征在于:所述腐蚀槽中承载有若干晶圆和磷酸溶液。
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