[实用新型]高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备装置

权利要求书

1.一种高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃的制备装置，其特征在于，包括：

氧化钛介电层形成单元，其镀制一层氧化钛介电层；

氮化硅介电层形成单元，其镀制一层氮化硅介电层；

氧化锌介电层形成单元，其镀制一层氧化锌介电层；

镍铬金属合金层形成单元，其镀制一层镍铬金属合金层；

银功能层形成单元，其镀制一层银功能层；

镍铬金属合金层形成单元，其镀制一层镍铬金属合金层；

氧化锌锡介电层形成单元，其镀制一层氧化锌锡介电层；及

氮化硅介电层形成单元，其镀制一层氮化硅介电层，

其中，所述制备装置在玻璃基板上依次镀制一层氧化钛介电层，一层氮化硅介电层，一层氧化锌介电层，一层镍铬金属合金层，一层银功能层，一层镍铬金属合金层，一层氧化锌锡介电层和一层氮化硅介电层。

2.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述氧化钛介电层形成单元采用氧化钛靶镀制，沉积厚度在5～15nm之间，制备氧化钛介电层的氧气与氩气量之比在1：15～20之间，溅射气压在2x10^-3mbar至4x10^-3mbar之间，沉积功率在30～50kw之间。

3.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述氮化硅介电层形成单元采用硅铝合金靶镀制，沉积厚度在5～10nm之间，制备氮化硅介电层的氮气与氩气量之比在1：2.5～3之间，溅射气压在3x10^-3mbar至5x10^-3mbar之间，沉积功率在20～40kw之间。

4.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述氧化锌介电层形成单元采用锌铝合金靶镀制，沉积厚度在5～10nm之间，制备氧化锌介电层的氧气与氩气量之比在1～2：1之间，溅射气压在2x10^-3mbar至4x10^-3mbar之间，沉积功率在20～40kw之间。

5.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述镍铬金属介电层形成单元采用镍铬合金靶镀制，沉积厚度在0.5～5nm之间，制备镍铬金属介电层的溅射气体为氩气，溅射气压在3x10^-3mbar至5x10^-3mbar之间，沉积功率在1～10kw之间。

6.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述银功能层形成单元采用纯银靶镀制，沉积厚度在5～13nm之间，制备银功能层的溅射气体为氩气，溅射气压在1x10^-3mbar至4x10^-3mbar之间，沉积功率在5～15kw之间。

7.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述镍铬金属介电层形成单元采用镍铬合金靶镀制，沉积厚度在1～5nm之间，制备镍铬金属介电层的溅射气体为氩气，溅射气压在3x10^-3mbar至5x10^-3mbar之间，沉积功率在1～10kw之间。

8.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述氧化锌锡介电层形成单元采用锌锡合金靶镀制，沉积厚度在10～20nm之间，制备氧化锌锡介电层的氧气与氩气量之比在1.5～2.5：1之间，溅射气压在3x10^-3mbar至5x10^-3mbar之间，沉积功率在30～60kw之间。

9.根据权利要求1所述的高透过率可钢化低辐射镀膜玻璃制备装置，其特征在于，所述氮化硅介电层形成单元采用硅铝合金靶镀制，沉积厚度在10～40nm之间，制备氮化硅介电层的氮气与氩气量之比在1：2～3.5之间，溅射气压在2.5x10^-3mbar至5x10^-3mbar之间，沉积功率在10～35kw之间。