[实用新型]一种碳化硅化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种碳化硅化学气相沉积设备，其特征在于，包括：

化学气相沉积室；

与所述化学气相沉积室相通的惰性气体进气管道；

与所述化学气相沉积室相通的工艺气体进气管道，所述工艺气体进气管道包括：与所述化学气相沉积室相通的混合装置，分别与所述混合装置相连通的第一工艺气体进气管道、第二工艺气体进气管道、第三工艺气体进气管道和第四工艺气体进气管道；

所述第一工艺气体进气管道依次设置有控制阀门、体积流量计和质量流量控制器；所述第二工艺气体进气管道依次设置有控制阀门、体积流量计和质量流量控制器；所述第三工艺气体进气管道依次设置有控制阀门、体积流量计和质量流量控制器；所述第四工艺气体进气管道上依次设置有控制阀门、体积流量计和质量流量控制器。

2.根据权利要求1所述的碳化硅化学气相沉积设备，其特征在于，所述混合装置与所述化学气相沉积室之间设置有质量流量控制器。

3.根据权利要求1所述的碳化硅化学气相沉积设备，其特征在于，所述第四工艺气体进气管道包括：载气进气管和与所述载气进气管相通的沉积源存储装置，所述沉积源存储装置与所述混合装置相通；

所述体积流量计和质量流量控制器设置在所述载气进气管和沉积源存储装置之间。

4.根据权利要求1所述的碳化硅化学气相沉积设备，其特征在于，所述化学气相沉积室包括：化学气相沉积腔体；设置在所述化学气相沉积腔体周围的气体分配箱；与所述气体分配箱连通的多个气体喷嘴，所述气体喷嘴与化学气相沉积腔体相连；

所述气体分配箱与所述混合装置相连通。

5.根据权利要求4所述的碳化硅化学气相沉积设备，其特征在于，所述气体分配箱通过质量流量控制器与所述混合装置相连通。