[实用新型]石墨底板和多晶硅锭炉的硅溢流检测装置

权利要求书

1.一种石墨底板，用于承载多晶硅铸锭炉中的坩埚，其特征在于，所述石墨底板开设环形槽和溢流通道；所述溢流通道连通于所述环形槽与所述石墨底板的边缘之间，当所述坩埚中漏出的硅液滴入所述环形槽时，所述溢流通道用于使所述硅液流到所述石墨底板的边缘处，并滴落到溢流线。 

2.如权利要求1所述的石墨底板，其特征在于，所述环形槽的槽宽为10～15mm。 

3.如权利要求2所述的石墨底板，其特征在于，所述环形槽包括底面，所述底面正对所述环形槽的开口，所述底面为沿着所述硅液的流动方向倾斜的斜面，所述坩埚中漏出的硅液沿着所述底面的倾斜方向流至所述溢流通道。 

4.如权利要求3所述的石墨底板，其特征在于，所述底面的横截面为圆弧形。 

5.如权利要求4所述的石墨底板，其特征在于，所述环形槽的纵截面为回形，所述底面具有两个顶点和两个底点，两个所述顶点和两个所述底点分别设置于所述环形槽的四个边角上，其中一个所述顶点分别与两个所述底点形成两个引流通道，所述引流通道通过其高度差使所述底面上的硅液流入所述溢流通道。 

6.如权利要求5所述的石墨底板，其特征在于，所述溢流通道的数量为两个，两个所述溢流通道分别连通至所述底面的两个所述底点。 

7.一种多晶硅锭炉的硅溢流检测装置，其特征在于，包括炉腔、设置于所述炉腔中的如权利要求1～6任意一项所述的石墨底板、坩埚、石墨固定块、隔热块和溢流线， 

所述坩埚承载于所述石墨底板上，所述坩埚的底部的边缘位于所述环形槽的槽宽之间， 

所述石墨固定块承载所述石墨底板，所述隔热块设于所述石墨固定块的下方，所述隔热块开设溢流孔，所述溢流孔正对所述溢流通道，所述溢流线位于所述隔热块的下方，且正对所述溢流孔。 

8.如权利要求7所述的多晶硅锭炉的硅溢流检测装置，其特征在于，所述多晶硅锭炉的硅溢流检测装置还包括岩棉，所述岩棉铺设于所述炉腔的底部上。