[实用新型]一种抛光机抛光液管路纯水反冲装置

说明书

技术领域

本实用新型属于单晶硅抛光片生产技术领域，主要涉及一种抛光机抛光液供应管路。

背景技术

单晶硅抛光片是IC行业的基础材料，而抛光机是生产抛光片不可或缺的主要设备之一。其中由日本FUJIKOSHI公司生产的SPM-19型抛光机在目前国内的单晶硅抛光片制造厂商中得到广泛使用。该型抛光机采用化学机械抛光方式实现对单晶硅片表面的抛光处理，在工作过程中必须保证化学腐蚀速率与机械去除速率完全匹配。因此抛光液的供应状态对于单晶硅抛光片（以下简称硅片）的产品质量具有极其重要的影响。

在抛光生产过程中，抛光液供应系统通过主转盘中心供液口向主转盘持续供应抛光液。此时，一方面要求抛光液以工艺设定的温度、流量稳定地向主转盘供应，以保证对硅片表面化学腐蚀作用的均匀性；同时要求抛光液始终保持较高洁净度，以免对硅片表面造成二次污染或其它损伤。然而在实际运行过程中我们发现，SPM-19型抛光机的抛光液管路存在以下突出问题：

抛光液过滤器出口至主转盘中心供液口之间管路较长，并且分布着较多诸如流量计、测温探头等零部件及弯头、三通、单向阀等管件。当抛光液停止供应后，上述管路、零部件及管件中会积存大量抛光液；随着时间推移，这部分抛光液逐渐沉积在管壁及零部件、管件内部，形成难以清除的固态结晶体，从而引发一系列故障：

1、结晶导致抛光液管路内径变窄甚至完全堵塞，无法保证抛光液的供应流量；

2、结晶导致流量计、测温探头、单向阀等零部件状态不稳定甚至整个元器件失灵，对工艺及设备的可靠性造成极大威胁。

3、结晶体为固态且状态不稳定，其中一部分会混入抛光液中并随抛光液一同流向主转盘，污染抛光布并对抛光硅片表面质量形成威胁。

实用新型内容

鉴于现有技术中所存在的实际问题，本实用新型设计并公开了一种抛光机抛光液管路纯水反冲装置；在不改变现有抛光液供应方式的前提下，通过使用纯水反冲抛光液管路，清除残余抛光液，避免结晶生成，以解决上述因管路内部抛光液结晶而引发的一系列问题。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采取的具体技术方案是：一种抛光机抛光液管路纯水反冲装置，主要由、三通接头、纯水供应球阀、纯水流量计和单向阀构成。其中，在原抛光液管路中抛光液供给球阀出口处将管路截断，加装三通接头。该接头中的第一个支路通过单向阀与抛光液供给球阀出口连接；第二个支路通过单向阀、纯水流量计、纯水供应球阀与纯水供应管道连接；第三个支路与抛光机内部抛光液管路连接。当抛光机正常工作时，将第二个支路中的纯水供应球阀关闭，第一个支路中的抛光液供给球阀打开，抛光液按固有方式供应；当抛光机空闲时，可根据需要进行纯水反冲，此时将第一个支路中的抛光液供给球阀关闭，将第二个支路中的纯水供应球阀打开，纯水反冲开始。待反冲过程结束后，再将第二个支路中的纯水供应球阀关闭，第一个支路中的抛光液供给球阀打开，抛光机正常待机。

 本实用新型公开的抛光液管路纯水反冲装置结构简单，安装操作方便，安全性能好，可以有效避免SPM-19型抛光机抛光液管路中结晶的形成，降低了设备故障率，增强了工艺稳定性，明显地提高了产品收率。

附图说明：

图1是本实用新型的结构示意图。

图中：1、纯水供应球阀；2、纯水流量计；3、单向阀；4、三通接头；5、单向阀；6、抛光液供给球阀；7、纯水供应管道；8、内部抛光液管路。

具体实施方式

下面结合附图给出本实用新型的实施方式如下：

如图1所示，本实用新型所述的一种抛光机抛光液管路纯水反冲装置，主要由纯水供应球阀1、纯水流量计2、单向阀3、三通接头4、单向阀5构成，其中纯水供应球阀1为PVDF材质，控制纯水通断，其出口与纯水流量计2进口联接；纯水流量计2用来显示反冲时的纯水流量，其出口与单向阀3的进口联接；单向阀3的作用是保证纯水定向流入抛光机，防止抛光液串入纯水管路，单向阀3的出口与三通接头4联接；与之同理，单向阀5的作用是保证抛光液只能按一定方向流入抛光机，防止纯水串入抛光液管路，其出口同样与三通接头4联接；三通接头4的作用是将纯水反冲装置、抛光液供应系统与抛光机内部管路联接起来。

纯水反冲的具体操作步骤如下：首先将抛光液供给球阀6关闭，然后将纯水供应球阀1打开，使用抛光机操作模式切换开关将抛光机置于“手动”操作模式，将触摸屏上“抛光液高流量供应”、“抛光液低流量供应”及“抛光液排放”按键同时点亮，调节纯水流量至16L/min，使纯水冲入抛光机内部抛光液管路，将残余抛光液彻底冲入排放管道。5分钟后，待残余抛光液被冲洗干净，将上述触摸屏选项全部取消，将纯水供应球阀1关闭，使用抛光机操作模式切换开关将抛光机置于“自动”操作模式，将抛光机切换回自动状态，反冲过程结束。