[实用新型]一种晶元裸视检测装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种晶元裸视检测装置,其能够提高裸视检出的能力，属于IC（集成电路）测试领域。

背景技术

晶元（Wafer）是硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，即生产集成电路所用的载体，在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，从而成为有特定电性功能的IC产品。在集成电路元件制程中，当晶元已被成功切割出，尚需经过外观检验，包括晶元的正面与背面，以初步确保晶元成品的可用性。

目前业界常见的晶元检测是在无尘室的工作桌上进行的，室内的光线来源于照明灯管，照度通常大于500LUM，由于照明灯管的光线照射在晶元上会发生反光现象，在晶元的表面易形成一些光斑，因而检测人员在裸视检测时不易发现晶元的表面的异常（例如刮伤、异物、破碎等），再者，检测人员进行操作时，检测人员身上的微尘会掉落在工作桌上的晶元上，从而降低了晶元的检出率。

基于以上原因，亟待出现一种机构来改善以上晶元的检出率低的现象。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种晶元裸视检测装置，其结构简单合理，能够有效地提高裸视检出的能力。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种晶元裸视检测装置，其设置于用于检测晶元的工作桌上，所述工作桌上设有一用于承载所述晶元的承载机构，所述晶元放置于所述承载机构上，该晶元裸视检测装置包括一内部黑暗的暗室和上照式的冷白色的LED光源，所述暗室架设于所述工作桌上，并将所述承载机构圈设于其中，所述暗室的一面开设有一容许检测人员检测的开口，所述LED光源设置于所述暗室内的上端部。

作为本实用新型的优选方案之一，所述暗室包括一顶盖和四块相互围接的侧板，其中一块所述侧板上开设有所述开口，且所述LED光源设置于所述顶盖的下方。

作为本实用新型的优选方案之一，所述暗室的顶盖和侧板为黑色的抗静电瓦楞板。

作为本实用新型的优选方案之一，所述LED光源为亮度可调式的环形灯，其照度为200-900LUX，色温为6000K-7000K。

作为本实用新型的优选方案之一，所述承载机构包括一中空吸座以及设置于所述中空吸座上的旋转台，所述晶元放置于所述旋转台上。

作为本实用新型的优选方案之一，该晶元裸视检测装置还包括风扇模块，所述风扇模块设于所述暗室的上方，其包括一箱体以及设于所述箱体内的风扇，所述箱体上开设有出风通道，所述出风通道与所述暗室的内部连通，并将风扇形成的气流导入至所述暗室内。

作为本实用新型的优选方案之一，所述出风通道为一出风口，所述出风口开设于所述箱体的一端，并位于所述暗室的开口的上方与所述暗室的内部连通。

作为本实用新型的优选方案之一，所述出风通道为作为所述箱体底板的过滤网，所述过滤网上开设有若干个过滤孔，并与所述暗室的内部连通。

作为本实用新型的优选方案之一，所述工作桌的桌面板上开设有若干个开孔。

作为本实用新型的优选方案之一，所述暗室的内部上方或工作桌的桌面上装设有至少一个离子消除模块。

通过以上技术方案，本实用新型提供的晶元裸视检测装置,通过暗室中的LED光源这一单一较强的光源照射晶元，在晶元表面不平整的地方产生漫发射，可以提高裸视检出的能力，且因检测环境为黑色，光线不会在其表面发生反射，因而杜绝了反射光线对产品检测的影响。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型结构特征和技术要点，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型进行详细说明。

图1为本实用新型实施例一所公开的一种晶元裸视检测装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例二所公开的一种晶元裸视检测装置的结构示意图；

图3为本实用新型实施例三所公开的一种晶元裸视检测装置的结构示意图；

图4为本实用新型所公开的一种晶元裸视检测装置设置离子消除模块的示意图。

附图标记说明：11-工作桌，111-开孔，12-承载机构，121-中空吸座，122-旋转台，13-暗室，131-顶盖，132-侧板，14-LED光源，15-风扇模块，151-箱体，152-风扇，152a-扇叶，152b-马达，16a-进风口，16b-出风口，17-过滤网，18-离子消除模块。

具体实施方式

下面将结合本实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行具体、清楚、完整地描述。