[实用新型]一种提高烧结矿用氯化钙溶液浓度稳定性的装置有效

专利信息
申请号: 201420358847.2 申请日: 2014-07-01
公开(公告)号: CN203923320U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 赵贵龙;李兴荣;刘天荣;杨德春;吴光宏 申请(专利权)人: 武钢集团昆明钢铁股份有限公司
主分类号: C22B1/24 分类号: C22B1/24
代理公司: 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 代理人: 姜开侠
地址: 650300 云南省*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 烧结 氯化钙 溶液 浓度 稳定性 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型属于冶金工业技术领域,涉及一种能消除氯化钙沉淀,从而提高氯化钙溶液浓度的稳定性,同时杜绝因氯化钙外排造成资源流失和环境污染的提高烧结矿用氯化钙溶液浓度稳定性的装置。

背景技术

我国的铁矿石大部分都是贫矿,贫矿直接入炉炼铁很不合算,因此必须将贫矿进行破碎、选出高品位的精矿后,再将精矿粉造块成为人造富矿才能入高炉冶炼。所以,粉矿造块是充分合理利用贫矿的不可缺少的关控环节。另外,富矿的开采过程中要产生粉矿,而粉矿直接入炉会引起高炉不顺,恶化高炉技术经济指标,因此粉矿也必须经过造块才能入炉。粒矿造块过程中,还可以除去部份有害杂质,如硫、氟、砷、锌等,有利于提高生铁的质量。因为人造富矿比天然富矿更具有优越性,成为了现代商炉原料的主要来源。

提高烧结矿冶金性能,缩短高炉冶炼周期是各钢铁企业追求的目标。目前,随着矿石资源的逐渐枯竭,和钢材市场的低迷运行,大家都在想方设法地减低生产成本,纷纷选用一些质量不是很高的矿石。这样一来,出现了因烧结矿冶金性能低下造成高炉冶炼周期增长,煤焦用量增加而成本升高。改善烧结矿低 温还原粉化性能的措施一般有提高烧结矿的FeO和MgO的含量、生产高碱度烧结矿、添加蛇纹石、硅石等,但是烧结矿FeO含量的提高会严重地影响其还原性能,使高炉燃耗增加 。

为了有效地解决这一矛盾,采用烧结矿表面喷洒氯化钙技术。在烧结矿表面喷洒氯化钙溶液可使其表面和孔隙被卤化物所覆盖,减缓了烧结矿在450~550℃的还原速度,阻碍了Fe2O3转变成Fe3O4时低温相变导致的体积膨胀,致使还原气体对烧结矿所产生的碎裂粉化作用减弱,从而达到减少烧结矿低温还原粉化的目的。另外,氯化钙往往作为碱业制造过程中的下脚废料,不加处理的排放会造成严重的环境污染,使用成本低廉。因此,在烧结矿上喷洒氯化钙溶液,能有效降低烧结矿低温还原粉化率,改善料柱透气性,提高烧结矿的冶金性能,缩短高炉冶炼周期,减少煤焦使用量,是一项经济效益和社会效益俱佳的高炉冶炼新技术,因此得以广泛应用。

由于氯化钙溶液中的碳酸钙易于沉淀,导致氯化钙母液或配加后的氯化钙溶液浓度因沉淀而降低影响氯化钙溶液的稳定性,达不到喷洒工艺要求,从而使氯化钙不仅不能有效的降低烧结矿的低温粉化率,为提高烧结矿的氯化钙含量而增加喷洒量,造成烧结矿水分增加而影响高炉筛分,水分过高还对高炉生产造成极大危害;而且沉淀后的氯化钙需要定期清理,不仅造成资源浪费和环境污染,而且劳动强度大、使用和清理成本高。为此,现有技术中也有采用喷洒氯化镁或复合添加剂来达到抑制烧结矿低温粉化率的目的,但却存在氯化镁使过多的碱金属带入高炉,不利于高炉炉墙的维护;部分采用复合添加剂虽然降低烧结矿的低温粉化率效果较好,但由于生产成本高,难以大规模推广应用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能消除氯化钙沉淀,从而提高氯化钙溶液浓度的稳定性,同时杜绝因氯化钙外排造成资源流失和环境污染的提高烧结矿用氯化钙溶液浓度稳定性的装置。

本实用新型的目的是这样实现的,包括氯化钙母液池、氯化钙溶液池、喷洒装置,所述氯化钙母液池通过泵与氯化钙溶液池连通,所述喷洒装置设置于三、四烧烧结矿成品仓之后的供料流程线上并通过喷洒泵与氯化钙溶液池连通,所述氯化钙母液池和/或氯化钙溶液池设置有搅拌泵。

本实用新型通过分别设置氯化钙母液池和氯化钙溶液池,特别是设置一个氯化钙母液池和两个氯化钙溶液池,实现氯化钙溶液喷洒不间断进行,利于连续化生产,提高生产效率;通过设置搅拌泵,在抽取氯化钙母液和/或氯化钙溶液时,特别是在抽取前,搅拌泵先行进行搅拌,从而彻底消除氯化钙沉淀问题,提高喷洒时氯化钙溶液浓度的稳定性,降低烧结矿的低温粉化率,保障高炉生产的稳定顺行和经济化生产;同时杜绝因氯化钙外排造成的资源流失和环境污染,提高了氯化钙资源的利用率,降低了清理沉淀物的劳动强度。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图中:1-氯化钙母液池,2-氯化钙溶液池,3-泵,4-搅拌泵,5-氯化钙喷洒装置,6-喷洒泵,7-喷洒控制装置,8-延时机构,9-进水管,10-阀,11-控制线。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明,但不得以任何方式对本实用新型加以限制,基于本实用新型教导所作的任何变更或改进,均属于本实用新型的保护范围。

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