[实用新型]液刀装置及蚀刻设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种液刀装置及蚀刻设备。

背景技术

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器)、LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅技术)和Oxide(氧化物)等制程工艺中，ITO(锡铟氧化物)蚀刻工艺是其中重要一环。蚀刻工艺是利用化学药品对基板表面的金属进行腐蚀，从而达到去掉部分金属的目的。

ITO蚀刻工艺通常采用湿蚀刻设备进行，湿蚀刻设备主要包括：蚀刻槽，用于使蚀刻药液附着于基板而进行蚀刻处理；设置于蚀刻槽的入口的液刀，液刀内设置有喷淋管，所述喷淋管内通入蚀刻药液如草酸(H₂C₂O₄)，以向蚀刻槽内的基板的上表面喷洒蚀刻药液。

在湿蚀刻设备闲置时，残留在液刀的喷淋管内的蚀刻药液(草酸因子)容易结晶，堵塞液刀，液刀喷出的水幕就会产生很明显的分叉，从而导致基板在进入蚀刻槽时液刀喷淋不均，继而影响蚀刻均一性，对产品性能产生很大影响。目前国内的湿蚀刻设备，特别是高世代线，由于长度增加，对药液的均一性要求更高，液刀堵塞的情况发生不断，目前解决液刀刀口喷淋出现分叉现象的方法是：作业人员手持刀片将刀口的堵塞杂质刮出掉，这样人工清理液刀影响产品品质、降低产能。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种液刀装置及蚀刻设备，能够减少液刀堵塞现象发生，提升蚀刻均一性，减少因手动调整液刀分叉导致的产能减少。

本实用新型所提供的技术方案如下：

一种液刀装置，包括：

液刀本体，所述液刀本体设有用于在第一状态时通入蚀刻药液以喷淋蚀刻药液，在第二状态时通清洗液以喷淋清洗液进行清洗的喷淋管；及，

与所述液刀本体连接的旋转机构，用于旋转所述液刀本体，以使在所述第一状态时所述喷淋管以第一喷淋角度喷淋蚀刻药液，在所述第二状态时所述喷淋管以第二喷淋角度喷淋清洗液。

进一步的，所述旋转机构包括：

能够带动所述液刀本体旋转的旋转轴，至少设置于所述液刀本体的一端；

及，用于驱动所述旋转轴旋转的驱动装置。

进一步的，所述驱动装置包括：

与所述旋转轴传动连接的驱动电机；

和/或，与所述旋转轴传动连接的旋转手柄。

进一步的，所述液刀装置还包括：用于控制所述液刀本体的旋转角度的旋转角度控制机构。

进一步的，所述旋转角度控制机构包括：用于测量所述液刀本体的旋转角度的角度测量装置；所述角度测量装置包括：

基座，所述液刀本体在所述旋转机构带动下相对所述基座旋转；

设置于所述基座上的角度量尺；

及，设置于所述液刀本体上的标记，所述标记用于在所述液刀本体旋转时，通过获取所述标记与所述角度量尺的位置关系，确定所述液刀本体的旋转角度。

进一步的，所述标记包括：设置于所述液刀本体上，并延伸至所述角度量尺上的指针；或者，设置于所述液刀本体的外表面上的标记线。

进一步的，所述旋转角度控制机构还包括：

用于获取所述角度测量装置的测量结果的获取装置；

及，用于根据所述角度测量装置的测量结果，控制所述旋转机构的工作状态的控制装置。

进一步的，所述液刀装置还包括：

用于为所述喷淋管提供蚀刻药液的第一液体储存装置；

及，用于为所述喷淋管提供清洗液的第二液体储存装置；

其中，所述喷淋管的进液口分别与所述第一液体储存装置及所述第二液体储存装置连通，且所述第一液体储存装置与所述喷淋管的进液口之间设置第一阀门，所述第二液体储存装置与所述喷淋管的进液口之间设置第二阀门。

进一步的，所述第一液体储存装置包括：设置于所述液刀本体下方、用于接收所述液刀本体喷淋的蚀刻药液并使蚀刻药液附着于基板进行蚀刻处理的蚀刻槽；

所述第二液体储存装置包括：位于所述蚀刻槽的一侧、用于接收所述液刀本体喷淋的清洗液的清洗液回收槽。

一种蚀刻设备，包括如上所述的液刀装置。

本实用新型的有益效果如下：