[实用新型]一种制备旋转高纯硅靶的烧结炉

权利要求书

1.一种制备旋转高纯硅靶的烧结炉，其特征是：包括炉盖（1），炉盖（1）与中空的炉壳（2）相连，炉壳（2）内部设置石墨热屏障（17），炉壳（2）与石墨热屏障（17）之间设置耐高温岩棉（16）；中空的炉壳（2）内部设置有冷却水，炉壳（2）一侧设置有第一进水管（14），另一侧设置第一出水管（3）；

石墨热屏障（17）内设置有环形的石墨发热体（6），石墨发热体（6）内部设置耐高温垫块（7），耐高温垫块（7）位于托盘（8）上；托盘（8）与自动升降装置（10）相连；

炉壳（2）中部一侧设置有进气管（18）、第二进水管（13）和抽真空出气管（12），另一侧设置炉门（15），炉壳（2）上还设置有第二出水管（9）；炉壳（2）下端还设置炉腿（4）。

2.如权利要求1所述制备旋转高纯硅靶的烧结炉，其特征是：炉盖（1）上还设置热电偶（5），热电偶（5）位于环形的石墨发热体（6）形成的空腔内。

3.如权利要求1所述制备旋转高纯硅靶的烧结炉，其特征是：所述石墨发热体（6）设置于耐热砖块上，耐高温岩棉（16）通过耐热砖块密封。