[实用新型]研磨头及研磨装置有效
| 申请号： | 201420330213.6 | 申请日： | 2014-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN203887682U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 唐强;马智勇;肖德元;徐依协 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/30 | 分类号： | B24B37/30;B24B37/27 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨头，其特征在于，包括：本体、设置于所述本体上的限位环；其中，所述限位环的底部设置有若干第一槽和若干第二槽；所述第一槽的分布方向与所述研磨头旋转的方向保持一致，所述第二槽的分布方向与所述研磨头旋转的方向相反。
2.如权利要求1所述的研磨头，其特征在于，所述第一槽和所述第二槽均匀分布于所述限位环底部。
3.如权利要求2所述的研磨头，其特征在于，所述第一槽的深度及宽度均大于所述第二槽的深度及宽度。
4.如权利要求3所述的研磨头，其特征在于，所述第一槽的深度为3.54mm～3.66mm；所述第一槽的宽度为3.27mm～3.36mm。
5.如权利要求3所述的研磨头，其特征在于，所述第二槽的深度为3.25mm～3.35mm；所述第二槽的宽度为3.18mm～3.21mm。
6.如权利要求1-5中任一项所述的研磨头，其特征在于，还包括设置于所述限位环内的吸附单元。
7.如权利要求1-5中任一项所述的研磨头，其特征在于，所述限位环为陶瓷环或不锈钢环。
8.一种研磨装置，其特征在于，包括：研磨垫和设置于所述研磨垫上的研磨头；其中，所述研磨头包括：本体、设置于所述本体上的限位环；其中，所述限位环的底部设置有若干第一槽和若干第二槽；所述第一槽的分布方向与所述研磨头旋转的方向保持一致，所述第二槽的分布方向与所述研磨头旋转的方向相反。
9.如权利要求8所述的研磨装置，其特征在于，所述第一槽和所述第二槽均匀分布于所述限位环底部。
10.如权利要求9所述的研磨装置，其特征在于，所述第一槽的深度及宽度均大于所述第二槽的深度及宽度。
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