[实用新型]一种激光刻蚀装置及系统有效
| 申请号： | 201420292077.6 | 申请日： | 2014-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN203918235U | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 李景涛;樊俊锋;王明东;朱凯;杨坤 | 申请（专利权）人： | 国民技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 刻蚀 装置 系统 | ||
1.一种激光刻蚀装置，其特征在于，所述激光刻蚀装置包括：
芯片；
载物平台，用于承载所述芯片；
光谱分析仪器，用于检测所述芯片的待刻蚀层信息；
可调谐激光器，用于从所述光谱分析仪器获取所述待刻蚀层信息，并根据所述待刻蚀层信息对所述芯片的待刻蚀层进行刻蚀。
2.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述可调谐激光器设置在一腔体内，所述腔体用于屏蔽所述可调谐激光器。
3.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述可调谐激光器的调谐范围为0.4μm至10.6μm。
4.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述待刻蚀层信息包括所述待刻蚀层的元素和物质成分。
5.根据权利要求1所述的激光刻蚀装置，其特征在于，所述可调谐激光器包括可调谐半导体激光器、钛宝石激光器、染料激光器或CO2激光器。
6.一种激光刻蚀系统，其特征在于，所述激光刻蚀系统包括：
芯片；
载物平台，用于承载所述芯片；
光谱分析仪器，用于检测所述芯片的待刻蚀层信息；
工作台，用于从所述光谱分析仪器获取所述待刻蚀层信息，并根据所述待刻蚀层信息产生第一信息和第二信息；
调节器，用于从所述工作台获取所述第一信息，并根据所述第一信息控制所述载物平台，以调节所述芯片的位置；
可调谐激光器，用于从所述工作台获取所述第二信息，并根据所述第二信息对所述芯片的待刻蚀层进行刻蚀。
7.根据权利要求6所述的激光刻蚀系统，其特征在于，所述可调谐激光器设置在一腔体内，所述腔体用于屏蔽所述可调谐激光器。
8.根据权利要求6所述的激光刻蚀系统，其特征在于，所述可调谐激光器的调谐范围为0.4μm至10.6μm。
9.根据权利要求6所述的激光刻蚀系统，其特征在于，所述待刻蚀层信息包括所述待刻蚀层的元素和物质成分。
10.根据权利要求6所述的激光刻蚀系统，其特征在于，所述可调谐激光器包括可调谐半导体激光器、钛宝石激光器、染料激光器或CO2激光器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国民技术股份有限公司，未经国民技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420292077.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种压力测试装置
- 下一篇：一种鸡舍高低温报警装置
