[实用新型]一种掩模板有效

专利信息
申请号: 201420261930.8 申请日: 2014-05-21
公开(公告)号: CN203965796U 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 郭建 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/44 分类号: G03F1/44
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 模板
【权利要求书】:

1.一种掩模板,其特征在于,所述掩模板上设有预设图形,在所述预设图形相对的两侧分别设有第一测试图形,所述第一测试图形用于确定所述掩模板在移动过程中产生的位置偏移的大小。

2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述第一测试图形上设有多个标记,所述标记沿第一方向排布,且在所述预设图形相对的两侧的第一测试图形上的所述标记关于第一方向镜面对称。

3.根据权利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述多个标记具有不同的预设宽度;并且,每个所述第一测试图形上的各标记的预设宽度沿所述第一方向递增或递减。

4.根据权利要求2所述的掩模板,其特征在于,在所述第一测试图形上设置有多个开口,相邻的两个所述开口之间的图形构成所述标记。

5.根据权利要求4所述的掩模板,其特征在于,多个所述开口的开口方向相同。

6.根据权利要求4或5所述的掩模板,其特征在于,多个所述开口的宽度相同。

7.根据权利要求4或5所述的掩模板,其特征在于,所述第一方向与多个所述开口的开口方向相垂直。

8.根据权利要求2或3所述的掩模板,其特征在于,每个第一测试图形上的各标记的宽度的范围为1.0μm~3.0mm。

9.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述预设图形为矩形。

10.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述掩模板上还设有第二测试图形,所述第二测试图形包括宽度不同的多个图案,所述多个图案用以确定曝光强度。

11.根据权利要求10所述的掩模板,其特征在于,所述图案为矩形或圆形。

12.根据权利要求10所述的掩模板,其特征在于,每个所述图案的宽度范围为1.0μm~3.0mm。

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