[实用新型]一种提高清洗机产能的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于LED外延衬底图形制造领域，特别是涉及一种提高清洗机产能的装置。

背景技术

在半导体制造领域，wafer（晶片）的清洗一直是必不可少的工艺环节。尤其在PSS图形化衬底制造工艺中，不仅在制备PSS图形前需要对wafer进行清洗，通过ICP蚀刻完所需图形后，仍需要对产品进行出货清洗，再加上返工流程所需要的清洗，整个制备流程在清洗环节需要消耗大量的时间，对清洗设备的产能是很大的考验。因此，在生产中，化学清洗往往是提高生产效率的瓶颈所在。

目前，清洗的工艺流程为，下线洗：酸洗＋去离子水洗→碱洗＋去离子水洗→刷洗→甩干；ICP后清洗：酸洗＋去离子水洗→超声碱洗＋去离子水洗→甩干→超声碱洗＋去离子水洗→高温酸洗＋去离子水洗→甩干。其中在每一组药液清洗完成后都有一步去离子水清洗，采用去离子水清洗的目的是清除残留在wafer表面的药液，防止在进行下步清洗时污染随后的药液，因此，此步骤不可避免。

现有的清洗机台的设计一般为，药液槽和对应的去离子水槽配成一组，药液槽在里，水槽在外。每组槽上方配备带有一个抓手并可以旋转180°的轴，抓手处配有一个挂篮用来放置盛放水的片盒。清洗时，由人工将片盒放入挂篮内，之后挂篮旋转180°至药液槽上方，下降，将片盒浸入药液中清洗，清洗完成后，抓手上升并旋转180°至水槽上方，下降至水槽中完成去离子水清洗。即可完成此环节的清洗。由清洗流程可以看到，当流程进行到去离子水洗时，药液槽处于闲置状态，非常严重的浪费机台的产能。

实用新型内容

为了解决背景技术中所存在的技术问题，本实用新型提出了一种提高清洗机产能的装置，清洗效率提高，提高了清洗机台的产能。

本实用新型的技术解决方案是：一种提高清洗机产能的装置，包括转动轴、与转动轴连接的抓手轴以及设置在抓手轴端部的抓手部件，其特征在于：所述抓手轴是两个，沿转动轴的轴向方向对称设置。

上述抓手部件上设置挂篮，所述挂篮设置在抓手部件端部。

本实用新型的发明是在原机台设备上增加一装置，以达到提高清洗机台产能的目的。机台改造后，清洗效率提高，提高了清洗机台的产能。

附图说明

图1是本实用新型现有技术的结构示意图；

图2是本实用新型的结构示意图；

具体实施方式

参见图2，本实用新型提出了一种提高清洗机产能的装置，包括转动轴1、与转动轴1连接的抓手轴2以及设置在抓手轴2端部的抓手3，抓手轴2是两个，沿转动轴1的轴向方向对称设置。以转动轴1为轴，本实用新型在原抓手轴对称的地方增加一个抓手3和挂篮4。清洗时，由人工将片盒分别放入两个挂篮4内，之后挂篮旋转180°至药液槽上方，下降，将片盒浸入药液中清洗，清洗完成后，抓手3上升并旋转180°至水槽上方，下降至水槽中完成去离子水清洗。当第一批产品完成药液清洗转动至水槽时，第二批产品则刚好转至药液槽，即当第一批产品进行至去离子水清洗时，可同时对第二批产品进行药液清洗。这样，可大大提高清洗机台的产能。