[实用新型]一种用于清洁电子元件的清洁设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于清洁电子元件的清洁设备，该电子元件例如，照相机模块和电子基板。 

背景技术

现有的清洁工艺通常利用多个处理不同步骤的清洁站。这些现有清洁工艺的一个问题是需要由工人用手将待清洁的电子元件从一个清洁站传递到下一个清洁站。因此，这些现有清洁工艺效率低下，降低吞吐量和产量。另一个问题是电子元件在清洁站之间的人手操作进一步弄脏电子元件，使电子元件具有污垢，灰尘和其他污染物。 

本实用新型的目的是克服或改善现有技术中的至少一个缺点，或提供一种有用的替代方案。 

实用新型内容

本实用新型的目的是克服或改善现有技术中的至少一个缺点，或提供一种有用的替代方案。 

本实用新型的各个方面和各种特征在所附的权利要求书中限定。可以理解的是，本实用新型的各种特征可以不同的组合出现在各种实施例中。 

在整个说明书中，包括权利要求书中，除非明确地陈述或上下文清楚地要求，词语“包括”，“包含”和其他类似应解释为包含的意义，即，“包括，但不限于”，而不是排他或者穷尽的意义。 

本实用新型提供了一种用于清洁电子元件的清洁设备，所述清洁设备包括： 

多个处理区；和 

一个或多个传送装置，所述传送装置用于将电子元件相继的传送到每一个处理区，使得所述电子元件顺序通过串连的处理区进行处理； 

其中，在一个处理区中，在大气压力下，施加等离子到电子元件上。 

可选的，在一个处理区中，将气体吹到电子元件上以去除电子元件上的污染物。 

可选的，在一个处理区中，对电子元件进行真空处理以去除电子元件上的污染物。 

可选的，另一个处理区是吹风区，在所述吹风区，向电子元件吹送气体，且另一个处理区是真空区，在所述真空区，对电子元件进行真空处理，在真空区之前，是在大气压力对电子元件施加等离子的处理区，而所述吹风区则在真空区之前。 

可选的，在大气压力下对电子元件施加等离子的处理区，也对所述电子元件应用去离子水。 

可选的，所述处理区被整合为一个单一机器。 

可选的，所述处理区和一个或多个传送装置被整合成作为一个单一机器。 

可选的，所述处理区和一个或多个传送装置被封闭在一个受控的清洁环境中。 

可选的，包括多个传送装置，其中每一个传送装置都被是单独操控的。 

本实用新型的有益效果在于：一个处理区的工序不需要停下来去等待下一个处理区的工序的完成。这大大提高了效率，吞吐量和产量。 

附图说明

根据本实用新型的最佳模式的优选的实施例将通过举例的方式，同时参考 附图进行描述，其中： 

图1是本实用新型一实施例的清洁设备的示意性平面图； 

图2是本实用新型一实施例的清洁设备的示意性侧视图； 

图3是本实用新型另一实施例的清洁设备的示意性侧视图； 

图4是本实用新型另一实施例的清洁设备的示意性侧视图； 

图5是本实用新型又一实施例的清洁设备的示意性平面图； 

图6是本实用新型再一实施例提供的清洁设备的示意性平面图。 

具体实施方式

参照附图，提供了用于清洁电子元件2的清洁设备1。该清洁设备包括多个处理区3，以及一个或多个用于将电子元件2相继传送到每个处理区3的传送装置4，使得所述电子元件顺序在在串连的各个处理区进行处理。 

该电子元件2可以是电子基板，陶瓷基板，照相机模块，用于OLED和LED的显示面板的元件。该电子元件2也可以是多个电子元件。例如，如在附图中所描述的，这可以是以运料盒5的形式容纳一排列的电子基板6或者一排列的照相机模块。应理解的是，本文描述的装置和工艺除了电子元件以外，还可清洁其它合适的零部件。 

根据本实用新型的一个方面，在一个处理区7中，在大气压力下施加等离子到电子元件2，这个处理区称为等离子区。另一个处理区是吹风区8，该吹风区8通过向电子元件吹送气体以除去电子元件上的污染物。该气体可以是空气，氮气(N2)，或其他合适的气体。还另一个处理区是真空区9，在该真空区9中对电子元件采用真空处理以去除电子元件上的污染物。该真空区在等离子区之前，而吹风区在该真空区之前。即，该电子元件2首先传送到吹风区，然后送到真空区，再送到等离子区。在一个实施方式中，在等离子区7中，还施加去离子水(DIW)到该电子元件上。