[实用新型]全自动太阳能硅片清洗机有效
申请号: | 201420111460.7 | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN203787392U | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 陆惠石 | 申请(专利权)人: | 张家港市港威超声电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18;B08B3/12 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 顾进 |
地址: | 215618 江苏省苏州市张*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 全自动 太阳能 硅片 清洗 | ||
1.全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:包括一超声清洗槽,所述的超声清洗槽后方依次设有浸泡酸洗槽、超声碱洗槽以及一个或多个超声漂洗槽,所述的超声清洗槽、浸泡酸洗槽、超声碱洗槽及超声漂洗槽上方设有一平移支架,所述的平移支架上吊设又一个或多个承载待清洗硅片的吊篮,所述的平移支架安装在一升降结构上。
2.如权利要求1所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的超声清洗槽前方设有超声粗洗槽,平移支架延伸至超声粗洗槽上方。
3.如权利要求2所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的超声粗洗槽上方设有浸泡上料槽,平移支架延伸至浸泡上料槽上方。
4.如权利要求3所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的超声漂洗槽后方设有下料台。
5.如权利要求4所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的吊篮通过一个或多个挂钩挂于平移支架上。
6.如权利要求5所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的超声清洗槽底部设有超声波发生板。
7.如权利要求6所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的浸泡酸洗槽底部设有超声波发生板。
8.如权利要求7所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的超声碱洗槽底部设有超声波发生板。
9.如权利要求8所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的每个超声漂洗槽底部设有超声波发生板。
10.如权利要求9所述的全自动太阳能硅片清洗机,其特征在于:所述的浸泡上料槽、超声粗洗槽、超声清洗槽、浸泡酸洗槽、超声碱洗槽及超声漂洗槽底部分别设有出液口。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造