[实用新型]湿式工作台

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种湿式工作台。

背景技术

湿式工作台（wet bench）广泛应用于半导体领域，其用于对晶圆进行湿法蚀刻（wet etch）或清洗（clean）。

传统的湿式工作台如图1所示，机槽80通常包括内槽81和外槽82，内槽81即处理槽（process bath），外槽82用于回收内槽81中的处理液。内外槽通常由一根管路连通，所述管路上设置回收装置60对处理液进行回收处理，在所述管路上设置循环泵(pump)70使外槽82中的液体通过所述回收装置60，开启循环过程以便回收外槽82的液体至内槽81。

然而，在传统的湿式工作台中，循环泵70停止工作后，处理液无法通过回收装置60，使得管路中形成一个封闭空间，这时在这段封闭空间内的处理液存在较大的压力，当循环泵70再次启动时会因此产生较大的启动流量，而这种大流量足以使在酸槽中处理的晶圆浮起，从而产生晶圆错槽或叠片的现象。

实用新型内容

为解决背景技术存在的问题，本实用新型提供一种湿式工作台，包括

用于放置待处理晶圆的一内槽；

一第一管路；

用于回收所述湿式工作台内液体的一外槽，与所述内槽相邻设置，并通过所述第一管路连通所述内槽；

设于所述第一管路上的循环泵和回收装置；

所述湿式工作台还包括:

一第二管路，其第一端连接所述外槽，第二端连接至所述循环泵与所述回收装置之间的第一管路。

进一步的，所述回收装置包括过滤器与加热器，所述第二管道的第二端连接至所述循环泵与所述过滤器之间的第一管路。

进一步的，所述湿式工作台还包括设置于所述第二管路上的阀门。

进一步的，所述湿式工作台还包括一控制单元，耦接所述循环泵与所述阀门；其中，当所述循环泵停止工作时，所述控制单元控制所述阀门开启，以泄除所述循环泵与所述回收装置之间的液体压力。

进一步的，所述控制单元内包括一延时单元，当所述循环泵开始工作后，所述延时单元控制所述阀门延长一定时间后关闭。

进一步的，所述延时单元为一时间继电器。

进一步的，所述的湿式工作台的内槽与外槽通过一挡板隔开，所述挡板上具有排水口。

进一步的，所述内槽与外槽的形状均为方形。

相比于现有技术的湿式工作台，本实用新型所述的湿式工作台通过紧邻第一管路设置一用于泄压的第二管路，使得在循环泵停止工作后，第一管路中的处理液不会积压而形成压力，从而解决了循环泵启动时由于处理液积压而产生较大流量，使在酸槽中处理的晶圆产生错槽或叠片的技术问题。

附图说明

图1为现有技术中湿式工作台的结构图。

图2为本实用新型实施例中所述的湿式工作台的结构图。

图3为本实用新型实施例中所述的湿式工作台的控制单元的控制信号波形。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

请参见图2，本实用新型提供的湿式工作台包括机槽10，由内槽11和外槽12组成，内槽11即处理槽（process bath），外槽12用于回收内槽11中的处理液，即内槽11工作时部分处理液流入外槽12，此部分处理液会被回收处理回到内槽11。内槽11中内外槽由第一管路100连接，所述管路100上设置回收装置对处理液进行回收处理，具体地，所述回收装置由过滤器（filter）30和加热器(heater)20对处理液进行过滤和加热处理，在所述管路100上设置循环泵(pump)40使外槽12中的液体通过所述过滤器30和加热器20，开启循环过程以便回收外槽12的液体至内槽11。

具体的，内槽11和外槽12的形状均为立方体，并通过一挡板隔开使得内槽11和外槽12彼此隔开。在所述挡板上存在排水口，在内槽11工作过程中，部分处理液会通过排水口溢出至外槽12，外槽12用以回收溢出的处理液。